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光譜橢偏儀
UNECS系列是可以高速、高精度測量薄膜膜厚和折射率的分光橢偏儀。采用的測量方式，實現(xiàn)了高速測量和機體的小型化。我們的產(chǎn)品陣容包括便攜式，自動式和對應真空環(huán)境的...
型號： UNECS系列所在地：日本參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:16:26 對比

橢偏儀手動型
真空計
皮拉尼真空計，可以測量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍該真空計從傳統(tǒng)的控制器（傳感器單元）中除去操作·顯示部，最大限度凝縮精簡功能...
型號： SW系列所在地：日本參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:14:39 對比

真空計
真空泵
VS系列是旋片式（單級）的油旋轉(zhuǎn)真空泵?？纱钆淞_茨泵獲得更大的排氣量。內(nèi)置油霧過濾器和回油裝置，排氣性能長期穩(wěn)定。此外，設計上還考慮到了油和濾芯更換等維保的便宜...
型號： VS系列所在地：日本參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:11:17 對比

真空泵
TCO激光劃線設備
TCO激光劃線設備ULT-1400本設備通過近紅外脈沖激光燒蝕法除去玻璃基板上成膜的透明電（TCO）膜，是一種枚用式激光劃線設備。本設備由6個IR激光法陣器和光...
型號： ULT-1400 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:14:21 對比

TCO激光劃線設備 ULT-1400 去膠設備
自然氧化膜去除設備
自然氧化膜去除設備去除設備RISE-300批處理式自然氧化膜去除設備RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等難以去除的自然氧化膜...
型號： RISE-300 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:11:58 對比

自然氧化膜去除設備 RISE-300 去膠設備
干法刻蝕裝置
對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對應光學器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral l...
型號： NLD-5700 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:10:19 對比

干法刻蝕裝置 NLD-5700
干法刻蝕設備
干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX對應LED量產(chǎn)用的干法刻蝕設備?NE-950EX?相對我司以往設備實現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源...
型號： APIOS NE-... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:08:22 對比

干法刻蝕設備 APIOS NE-950EX
NLD干法刻蝕設備
研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科磁性中性線（NLD- neutral loop discha...
型號： NLD-570 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:06:19 對比

NLD干法刻蝕設備 NLD-570
高密度等離子刻蝕裝置
高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對應刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
型號： ULHITETM ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:03:51 對比

ULHITETM NE-7800H 高密度等離子刻蝕裝置
刻蝕設備
量產(chǎn)用刻蝕設備NE-5700/NE-7800量產(chǎn)用刻蝕設備NE-5700/NE-7800是可以對應單腔及多腔、重視性價比擁有擴展性的刻蝕設備。
型號： NE-5700/N... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 15:01:45 對比

NE-5700/NE-7800 刻蝕設備
濺射鍍膜設備（立式）
濺射鍍膜設備SMD系列（立式）SMD 系列是鍍金屬膜、ITO、IGZO、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設備。僅SMD系列就有超過1000臺的豐富的采用實績，在各種各...
型號： SMD系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:59:51 對比

濺射鍍膜設備（立式）SMD系列
Load-lock式濺射設備
Load-lock式濺射設備是可對應從研究開發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設備。這種設備通過在真空濺射室之前增加一個預真空鎖室（Load-lock chamber），實現(xiàn)...
型號： CS-200 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:58:03 對比

Load-lock式濺射設備 CS-200
批次式濺射設備
批次式濺射設備SV系列SV系列為縱型batch式濺射設備。為可以處理大量基板的回轉(zhuǎn)型設備。
型號： SV系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:55:41 對比

批次式濺射設備
去膠設備
去膠設備NA-1300系列從關鍵的新世代晶圓制程到晶圓封裝，Luminous NA系列可對應廣范圍的各類晶圓尺寸的各類工藝需求。
型號： NA-1300系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:53:49 對比

去膠設備 NA-1300系列
SiC用高溫離子注入設備
SiC用高溫離子注入設備 IH-860DSIC搭載了高溫ESC（靜電吸附卡盤）的面向SiC量產(chǎn)用的高能粒子注入裝置。
型號： IH-860DSI... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:51:37 對比

IH-860DSIC SiC用高溫離子注入設備
離子注入設備
研究開發(fā)用中電流離子注入設備IMX-3500中電流離子注入裝置IMX-3500為大能量200keV、對應大晶圓尺寸8inch的離子注入裝置，適用于大學等機構(gòu)的研...
型號： IMX-3500 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:49:39 對比

IMX-3500 離子注入設備
離子注入設備
高能對應離子注入設備SOPHI-400可達2400KeV的高能離子注入設備。
型號： SOPHI-400 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:47:50 對比

離子注入設備 SOPHI-400
離子注入設備
可對應低速高濃度的離子注入設備SOPHI-30低加速、高濃度對應的離子注入設備。
型號： SOPHI-30 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:45:48 對比

離子注入設備 SOPHI-30
枚葉式等離子CVD設備
枚葉式等離子CVD設備CMD系列CMD系列是用SiH4和TEOS成膜的a-Si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式CVD設備。
型號： CMD系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:43:22 對比

枚葉式等離子CVD設備鍍膜設備 CMD系列
Load-lock式Plasma CVD設備
Load-lock式Plasma CVD設備 CC-200/400Load-lock式Plasma CVD設備CC-200/400是小型的使用便利的可對應從研究...
型號： CC-200/40... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:41:21 對比

CC-200/400 Load-lock式Plasma CVD設備鍍膜設備

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