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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 光譜橢偏儀

    UNECS系列是可以高速、高精度測(cè)量薄膜膜厚和折射率的分光橢偏儀。采用的測(cè)量方式,實(shí)現(xiàn)了高速測(cè)量和機(jī)體的小型化。我們的產(chǎn)品陣容包括便攜式,自動(dòng)式和對(duì)應(yīng)真空環(huán)境的...
    型號(hào): UNECS系列 所在地:日本 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 11:16:26 對(duì)比
  • 真空計(jì)

    皮拉尼真空計(jì),可以測(cè)量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍該真空計(jì)從傳統(tǒng)的控制器(傳感器單元)中除去操作·顯示部,最大限度凝縮精簡(jiǎn)功能...
    型號(hào): SW系列 所在地:日本 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 11:14:39 對(duì)比
  • 真空泵

    VS系列是旋片式(單級(jí))的油旋轉(zhuǎn)真空泵。可搭配羅茨泵獲得更大的排氣量。內(nèi)置油霧過(guò)濾器和回油裝置,排氣性能長(zhǎng)期穩(wěn)定。此外,設(shè)計(jì)上還考慮到了油和濾芯更換等維保的便宜...
    型號(hào): VS系列 所在地:日本 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/6 11:11:17 對(duì)比
  • TCO激光劃線設(shè)備

    TCO激光劃線設(shè)備ULT-1400本設(shè)備通過(guò)近紅外脈沖激光燒蝕法除去玻璃基板上成膜的透明電(TCO)膜,是一種枚用式激光劃線設(shè)備。本設(shè)備由6個(gè)IR激光法陣器和光...
    型號(hào): ULT-1400 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:14:21 對(duì)比
  • 自然氧化膜去除設(shè)備

    自然氧化膜去除設(shè)備去除設(shè)備RISE-300批處理式自然氧化膜去除設(shè)備RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等難以去除的自然氧化膜...
    型號(hào): RISE-300 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:11:58 對(duì)比
  • 干法刻蝕裝置

    對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線(NLD- neutral l...
    型號(hào): NLD-5700 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:10:19 對(duì)比
  • 干法刻蝕設(shè)備

    干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX對(duì)應(yīng)LED量產(chǎn)用的干法刻蝕設(shè)備?NE-950EX?相對(duì)我司以往設(shè)備實(shí)現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源...
    型號(hào): APIOS NE-... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:08:22 對(duì)比
  • NLD干法刻蝕設(shè)備

    研究開(kāi)發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備N(xiāo)LD-570研究開(kāi)發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備N(xiāo)LD-570,是搭載了愛(ài)發(fā)科磁性中性線(NLD- neutral loop discha...
    型號(hào): NLD-570 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:06:19 對(duì)比
  • 高密度等離子刻蝕裝置

    高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對(duì)應(yīng)刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
    型號(hào): ULHITETM ... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:03:51 對(duì)比
  • 刻蝕設(shè)備

    量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備N(xiāo)E-5700/NE-7800量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備N(xiāo)E-5700/NE-7800是可以對(duì)應(yīng)單腔及多腔、重視性價(jià)比擁有擴(kuò)展性的刻蝕設(shè)備。
    型號(hào): NE-5700/N... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 15:01:45 對(duì)比
  • 濺射鍍膜設(shè)備(立式)

    濺射鍍膜設(shè)備SMD系列(立式)SMD 系列是鍍金屬膜、ITO、IGZO、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設(shè)備。僅SMD系列就有超過(guò)1000臺(tái)的豐富的采用實(shí)績(jī),在各種各...
    型號(hào): SMD系列 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:59:51 對(duì)比
  • Load-lock式濺射設(shè)備

    Load-lock式濺射設(shè)備是可對(duì)應(yīng)從研究開(kāi)發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設(shè)備。這種設(shè)備通過(guò)在真空濺射室之前增加一個(gè)預(yù)真空鎖室(Load-lock chamber),實(shí)現(xiàn)...
    型號(hào): CS-200 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:58:03 對(duì)比
  • 批次式濺射設(shè)備

    批次式濺射設(shè)備SV系列SV系列為縱型batch式濺射設(shè)備。為可以處理大量基板的回轉(zhuǎn)型設(shè)備。
    型號(hào): SV系列 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:55:41 對(duì)比
  • 去膠設(shè)備

    去膠設(shè)備N(xiāo)A-1300系列從關(guān)鍵的新世代晶圓制程到晶圓封裝,Luminous NA系列可對(duì)應(yīng)廣范圍的各類(lèi)晶圓尺寸的各類(lèi)工藝需求。
    型號(hào): NA-1300系列 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:53:49 對(duì)比
  • SiC用高溫離子注入設(shè)備

    SiC用高溫離子注入設(shè)備 IH-860DSIC搭載了高溫ESC(靜電吸附卡盤(pán))的面向SiC量產(chǎn)用的高能粒子注入裝置。
    型號(hào): IH-860DSI... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:51:37 對(duì)比
  • 離子注入設(shè)備

    研究開(kāi)發(fā)用中電流離子注入設(shè)備IMX-3500中電流離子注入裝置IMX-3500為大能量200keV、對(duì)應(yīng)大晶圓尺寸8inch的離子注入裝置,適用于大學(xué)等機(jī)構(gòu)的研...
    型號(hào): IMX-3500 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:49:39 對(duì)比
  • 離子注入設(shè)備

    高能對(duì)應(yīng)離子注入設(shè)備SOPHI-400可達(dá)2400KeV的高能離子注入設(shè)備。
    型號(hào): SOPHI-400 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:47:50 對(duì)比
  • 離子注入設(shè)備

    可對(duì)應(yīng)低速高濃度的離子注入設(shè)備SOPHI-30低加速、高濃度對(duì)應(yīng)的離子注入設(shè)備。
    型號(hào): SOPHI-30 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:45:48 對(duì)比
  • 枚葉式等離子CVD設(shè)備

    枚葉式等離子CVD設(shè)備CMD系列CMD系列是用SiH4和TEOS成膜的a-Si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式CVD設(shè)備。
    型號(hào): CMD系列 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:43:22 對(duì)比
  • Load-lock式Plasma CVD設(shè)備

    Load-lock式Plasma CVD設(shè)備 CC-200/400Load-lock式Plasma CVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對(duì)應(yīng)從研究...
    型號(hào): CC-200/40... 所在地:國(guó)外 參考價(jià): 面議 更新時(shí)間:2025/6/5 14:41:21 對(duì)比

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