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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • 有掩膜光刻機(jī)

    VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機(jī)為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業(yè)設(shè)計(jì)的最大的系統(tǒng)。它是平板...
    型號(hào)： VPG 800 /... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/6 8:56:11 對(duì)比

  • 激光掩模光刻機(jī)

    ULTRA激光掩模光刻機(jī) 是專門用于成熟半導(dǎo)體光掩模的合格激光掩模機(jī)。半導(dǎo)體光掩模用于制造電子設(shè)備，包括微控制器、電源管理、LED、物聯(lián)網(wǎng) （IoT） 和 ME...
    型號(hào)： ULTRA 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 16:49:59 對(duì)比

  • 無(wú)掩模直接成像儀光刻機(jī)

    PG 300 DI 是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)組件，能夠以最高的...
    型號(hào)： VPG 300 D... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 16:43:56 對(duì)比

  • 有掩膜光刻機(jī)

    VPG 200 / VPG 400 體積圖形發(fā)生器是光刻系統(tǒng)，專為 i-line 光刻膠的多用途掩模制造而設(shè)計(jì)。它們支持所有標(biāo)準(zhǔn)的中小型面罩尺寸，最大尺寸為 4...
    型號(hào)： VPG 200 /... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 16:39:38 對(duì)比

  • 激光光刻機(jī)

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、...
    型號(hào)： DWL 2000 ... 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 16:35:30 對(duì)比

  • 雙光子聚合直寫光刻機(jī)

    MPO 100雙光子聚合直寫光刻機(jī)是一種雙光子聚合 （TPP） 多用戶工具，用于微結(jié)構(gòu)的 3D 光刻和 3D 顯微打印，適用于微光學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)械學(xué)和生物醫(yī)學(xué)...
    型號(hào)： MPO 100 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 16:30:58 對(duì)比

  • 無(wú)掩模對(duì)光刻機(jī)

    無(wú)掩模對(duì)光刻機(jī) MLA 300 提供高吞吐量、簡(jiǎn)化的工作流程以及與制造執(zhí)行系統(tǒng) （MES） 的集成。該工具用于生產(chǎn)傳感器和傳感器 IC、MEMS 和微流體器件。...
    型號(hào)： MLA 300 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 16:28:32 對(duì)比

  • 無(wú)掩模直接成像儀

    VPG 300 DI 無(wú)掩模直接成像儀是一款體積圖案發(fā)生器，專為在 i 線光刻膠中直接寫入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具，具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)...
    型號(hào)： VPG 300 所在地：深圳市 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 16:22:48 對(duì)比

  • 激光光刻機(jī).

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、...
    型號(hào)： DWL 2000 ... 所在地：國(guó)外 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 16:18:52 對(duì)比

  • 無(wú)掩模光刻機(jī)

    μMLA無(wú)掩模光刻機(jī)是優(yōu)良的無(wú)模板技術(shù)，建立在著名的 μPG 平臺(tái)之上，該平臺(tái)是臺(tái)式無(wú)模板系統(tǒng)。
    型號(hào)： μMLA 所在地：德國(guó) 參考價(jià)： 面議 更新時(shí)間：2025/6/5 15:59:06 對(duì)比
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