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深圳市矢量科學儀器有限公司

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自然氧化膜去除設(shè)備

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號RISE-300

品牌ULVAC/日本愛發(fā)科

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地國外

更新時間:2025-06-05 15:11:58瀏覽次數(shù):463次

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自然氧化膜去除設(shè)備去除設(shè)備 RISE-300批處理式自然氧化膜去除設(shè)備RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等難以去除的自然氧化膜的批處理式預(yù)清洗裝置??商幚?00mm,300mm尺寸晶圓。

1 產(chǎn)品概述:

   自然氧化膜去除設(shè)備是一種專門用于去除半導(dǎo)體晶圓、太陽能電池板等表面自然形成的氧化膜的設(shè)備。這些氧化膜通常是由于材料暴露在空氣中與氧氣反應(yīng)而形成的,它們會影響后續(xù)工藝步驟的精度和效果,因此需要在特定工藝階段前進行去除。自然氧化膜去除設(shè)備通過物理或化學方法,如等離子體刻蝕、化學清洗等,有效去除這些氧化膜,保證后續(xù)工藝的質(zhì)量。

2 設(shè)備用途:

自然氧化膜去除設(shè)備的主要用途包括:

  1. 半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體芯片制造過程中,自然氧化膜去除設(shè)備用于去除晶圓表面的自然氧化層,為后續(xù)的沉積、光刻、刻蝕等工藝步驟提供干凈的表面。這對于保證芯片的性能和可靠性至關(guān)重要。

  2. 太陽能電池制造:在太陽能電池板的生產(chǎn)中,自然氧化膜去除設(shè)備用于去除電池板表面的氧化膜,提高電池的光電轉(zhuǎn)換效率和穩(wěn)定性。

  3. 微納加工:在微納加工領(lǐng)域,自然氧化膜去除設(shè)備也用于去除微納米結(jié)構(gòu)表面的氧化膜,保證加工精度和表面質(zhì)量。

3 設(shè)備特點

自然氧化膜去除設(shè)備通常具有以下特點:

  1. 高精度:設(shè)備能夠精確控制去除氧化膜的厚度和均勻性,確保不會對基材造成損傷或過度去除。

  2. 高效率:設(shè)備通常采用批量處理的方式,能夠同時處理多個晶圓或電池板,提高生產(chǎn)效率。

  3. 低損傷:在去除氧化膜的過程中,設(shè)備采用溫和的物理或化學方法,避免對基材造成機械損傷或化學腐蝕。

  4. 高穩(wěn)定性:設(shè)備具備穩(wěn)定的控制系統(tǒng)和精確的監(jiān)測裝置,能夠確保長時間運行的穩(wěn)定性和可靠性。

批處理式自然氧化膜去除設(shè)備RISE-300,該產(chǎn)品具有以下特點:

  • 高產(chǎn)率以及低運行成本(CoO)。

  • 具有良好的刻蝕均一性(小于±5%/批)和再現(xiàn)性。

  • 采用干法刻蝕技術(shù),具有Damage-Free的特點(如遠端等離子、低溫工藝),減少了對基材的損傷。

  • 自對準接觸電阻僅為濕法的1/2,提高了工藝效率。

  • 靈活的裝置布局和高維護性(方便的側(cè)面維護),降低了維護成本。

  • 可處理200mm300mm尺寸的晶圓,具有廣泛的應(yīng)用范圍。


4
技術(shù)參數(shù)和特點:

高產(chǎn)率以及低CoO

良好的刻蝕均一性(小于±5%/批)和再現(xiàn)性

干法刻蝕

Damage-Free(遠端等離子、低溫工藝)

自對準接觸電阻僅為濕法的1/2

靈活的裝置布局

高維護性(方便的側(cè)面維護)

300mm晶圓批處理:50/


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