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12英寸立式中高溫氧化爐
12英寸立式中高溫氧化爐THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高溫和超高溫氧化和退火工藝。該機(jī)臺為立式單腔爐管系統(tǒng)，工藝處理過程實(shí)現(xiàn)了...
型號： THEORIS X... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 14:53:28 對比

THEORIS X302H/P 12英寸立式中高溫氧化爐北方華創(chuàng)
LSA 201 環(huán)境控制激光尖峰退火設(shè)備
Veeco 的 LSA201 激光尖峰退火（LSA）系統(tǒng)具有與 LSA101 相同的架構(gòu)，可在掃描激光系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)全晶圓環(huán)境控制。該微室在于它不需要使用真空負(fù)...
型號：所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 10:23:08 對比

激光退火退火爐
LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備
LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備系統(tǒng)安裝的 IDM 和晶圓代工廠，是大批量制造 40nm 至 140nm 節(jié)點(diǎn)的先進(jìn)邏輯器件的技術(shù)。LSA 101 的掃描技術(shù)...
型號：所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 10:20:44 對比

退火爐激光退火
快速退火爐
由德國UNITEMP研發(fā)的用于 200 毫米（8 英寸）晶圓尺寸或 M10 182 x 182 毫米太陽能硅片的快速退火爐RTP-200。
型號： RTP-200 所在地：德國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 9:30:56 對比

半導(dǎo)體前道退火爐
快速退火爐
由德國UNITEMP研發(fā)符合高真空標(biāo)準(zhǔn)的快速退火爐，升溫速率高達(dá) 75 K/sec。，升溫速率高達(dá) 150 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜...
型號： RTP-150-H... 所在地：德國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 9:26:46 對比

半導(dǎo)體前道退火爐
快速退火爐
由德國UNITEMP研發(fā)的真空快速退火爐RTP-150-EP，升溫速率高達(dá) 150 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降...
型號： RTP-150-E... 所在地：德國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 9:19:55 對比

半導(dǎo)體前道退火爐
快速退火爐
由德國UNITEMP研發(fā)的快速退火爐RTP-150，升溫速率高達(dá) 75 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周...
型號： RTP-150 所在地：德國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 9:14:20 對比

半導(dǎo)體前道退火爐
快速退火爐
由德國UNITEMP研發(fā)的符合高真空標(biāo)準(zhǔn)的快速退火爐，升溫速率高達(dá) 200 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工...
型號： RTP-100-H... 所在地：德國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 9:10:35 對比

半導(dǎo)體前道退火爐
快速退火爐
德國UNITEMP研發(fā)的符合高真空標(biāo)準(zhǔn)的快速退火爐RTP-100-HV，升溫速率可高達(dá) 150 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和...
型號： RTP-100-H... 所在地：德國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 9:08:33 對比

半導(dǎo)體前道退火爐
快速退火爐
德國UNITEMP研發(fā)的符合真空標(biāo)準(zhǔn)的快速退火爐RTP-100-EP，升溫速率高達(dá) 200 K/sec。主要特點(diǎn)：良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速...
型號： RTP-100-E... 所在地：德國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 9:04:19 對比

半導(dǎo)體前道退火爐
快速退火爐
快速退火爐，升溫速率高達(dá) 150 K/sec。
型號： RTP-100 所在地：德國參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 8:52:22 對比

半導(dǎo)體前道退火爐
LSA 101 激光退火爐
Veeco 的 LSA101 系統(tǒng)安裝在的 IDM 和晶圓代工廠，是大批量制造 40nm 至 14nm 節(jié)點(diǎn)的先進(jìn)邏輯器件的技術(shù)。LSA 101 的掃描技術(shù)基于...
型號：所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 16:09:17 對比

激光退火
碳化硅高溫退火爐
VERIC A6151A 碳化硅高溫退火爐適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設(shè)備
型號： VERIC A61... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:42:54 對比

碳化硅高溫退火爐 VERIC A6151A
碳化硅高溫氧化爐
VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐，適用于碳化硅高溫激活 & 退火的設(shè)備,最高溫度 2000℃，升溫速率可達(dá) 100℃/min,石墨電阻加熱，工藝腔室潔...
型號： VERIC A61... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:41:11 對比

VERIC A6151A 碳化硅高溫氧化爐退火爐北方華創(chuàng)
擴(kuò)散/氧化系統(tǒng)
HORIC D200系列擴(kuò)散/氧化系統(tǒng)，半導(dǎo)體客戶端機(jī)臺裝機(jī)量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺,安全性能高：設(shè)備及所使用的元件符合國標(biāo)和國際標(biāo)準(zhǔn)。
型號： HORIC D20... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:39:11 對比

HORIC D200系列擴(kuò)散/氧化系統(tǒng)北方華創(chuàng)
電阻式碳化硅長晶爐
AGF系列電阻式碳化硅長晶爐，適用于 6、8 英寸，導(dǎo)電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。
型號： AGF系列所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:25:50 對比

電阻式碳化硅長晶爐 AGF系列北方華創(chuàng)
感應(yīng)式碳化硅長晶爐
APS系列感應(yīng)式碳化硅長晶爐，適用于 6 英寸、8 英寸，導(dǎo)電 / 高純半絕緣型 SiC 晶體生長。
型號： APS系列所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:23:41 對比

感應(yīng)式碳化硅長晶爐 APS系列
碳化硅快速熱退火系統(tǒng)
Pallas A220 碳化硅快速熱退火系統(tǒng)，加熱分區(qū)設(shè)計(jì)，具備良好的溫度均勻性。
型號： Pallas A2... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:21:38 對比

Pallas A220 碳化硅快速熱退火系統(tǒng)北方華創(chuàng)
12英寸單片快速熱退火系統(tǒng)
Sitara TA230A 12英寸單片快速熱退火系統(tǒng)，適用于 260-1200℃快速熱處理工藝。
型號： Sitara TA... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 12:19:54 對比

12英寸單片快速熱退火系統(tǒng)Sitara TA230A 北方華創(chuàng)
激光退火設(shè)備
半導(dǎo)體激光退火機(jī)是用于半導(dǎo)體制造過程中的一種設(shè)備。退火是一種熱處理過程，通過加熱半導(dǎo)體材料來改變其性質(zhì)，以實(shí)現(xiàn)所需的特性，如電導(dǎo)率、晶體結(jié)構(gòu)和應(yīng)力緩解。半導(dǎo)體激...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 7:37:16 對比

激光退火設(shè)備退火爐華卓精科 customized

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