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深圳市矢量科學儀器有限公司

無掩模光刻機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號μMLA

品牌STELLA/海德堡儀器

廠商性質經銷商

所在地德國

更新時間:2025-06-05 15:59:06瀏覽次數:423次

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μMLA無掩模光刻機是優(yōu)良的無模板技術,建立在著名的 μPG 平臺之上,該平臺是臺式無模板系統。

1. 產品概述:

臺式 μMLA 系統是優(yōu)良的無模板技術,建立在的 μPG 平臺之上,該平臺是全球高的臺式無模板系統。它是一款入門研發(fā)(R&D)工具,幾乎適用于任何需要微結構的應用。典型的例子有微流控(細胞分選裝置、芯片實驗室)、小規(guī)模掩模寫入、微光學和微透鏡陣列、傳感器、MEMS、接觸式二維材料和扇出電等。

μMLA是一種靈活且可定制的工具,并提供兩種曝光模式。標準μMLA使用光柵掃描曝光模式進行曝光,該模式速度快,可提供出色的圖像質量和保真度,而寫入時間與圖案密度的結構大小無關??蛇x的矢量掃描模式旨在以更快、更準確的方式對連續(xù)平滑的曲線(如波導)進行圖案化。三種光學設置提供了可變分辨率和吞吐量的選擇。每種配置都允許在不同的分辨率和速度配置之間輕松切換,以優(yōu)化給定應用的曝光。拉伸模式可以對現有結構進行直接的臨時修改,并可以與納米線或 2D 材料進行電接觸?;叶绕毓饽J皆试S創(chuàng)建復雜的 2.5 結構,例如微光學設備。μMLA占地面積小,可放在普通桌子上。


有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數:1. 光源:375 nm、385 nm、

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電子束光刻系統 技術參數:$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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