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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

當(dāng)前位置:深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>1 光刻設(shè)備>> DWL 2000 GS / DWL 4000 GS激光光刻機(jī).

激光光刻機(jī).

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)DWL 2000 GS / DWL 4000 GS

品牌STELLA/海德堡儀器

廠商性質(zhì)經(jīng)銷(xiāo)商

所在地國(guó)外

更新時(shí)間:2025-06-05 16:18:52瀏覽次數(shù):529次

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DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對(duì)工業(yè)級(jí)灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化,設(shè)計(jì)用于集成電路、MEMS、微光學(xué)和微流體器件、傳感器、全息圖防偽特征的掩模和晶圓的高通量圖案化。

1. 產(chǎn)品概述

MPO 100是海德堡儀器推出的一款先進(jìn)多用戶工具,專(zhuān)門(mén)為復(fù)雜微結(jié)構(gòu)的3D光刻和3D顯微打印而設(shè)計(jì)。作為一款頂尖的設(shè)備,MPO 100采用了先進(jìn)的雙光子聚合(TPP)技術(shù),這一技術(shù)在微光學(xué)、光子學(xué)、微力學(xué)以及生物醫(yī)學(xué)工程等多個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用中表現(xiàn)出色,推動(dòng)了這些領(lǐng)域的技術(shù)進(jìn)步和創(chuàng)新。

MPO 100所提供的多功能平臺(tái),使其在精度和生產(chǎn)效率方面達(dá)到一定水平。它能夠在單一高效的工藝步驟中,快速而準(zhǔn)確地生產(chǎn)出復(fù)雜的功能性微結(jié)構(gòu)。這一特性尤其適用于需要精細(xì)設(shè)計(jì)和高可靠性的應(yīng)用,如高性能光學(xué)元件、微流體器件以及生物傳感器等,滿足市場(chǎng)對(duì)高精度和高效能的需求。

MPO 100的靈活性使得它可以適應(yīng)多種材料和設(shè)計(jì)需求,支持不同用戶的應(yīng)用。此外,該設(shè)備的高吞吐量確保了生產(chǎn)效率,使得科研人員和工程師能夠在短時(shí)間內(nèi)進(jìn)行多次實(shí)驗(yàn)和迭代,從而加速產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和技術(shù)驗(yàn)證。

2. 主要特點(diǎn)

高精度和高吞吐量:以低至 100 nm 的小特征尺寸實(shí)現(xiàn)精度。受益于掃描速度超過(guò) 1000 mm/s 的高速 3D 打印以及體素調(diào)優(yōu)。

多種材料兼容性:利用 522 nm 的強(qiáng)大飛激光系統(tǒng)高效處理各種聚合物。利用經(jīng)過(guò)行業(yè)驗(yàn)證的ORMOCER®雜化聚合物,具有的光學(xué)、機(jī)械和化學(xué)性能。

免拼接微光學(xué)元件:通過(guò)無(wú)限視場(chǎng) IFoV) 制造模式,無(wú)需拼接即可創(chuàng)建精確的微光學(xué)元件。

模塊化3D打印平臺(tái): 3D 光刻和 3D 顯微打印之間無(wú)縫切換,具有特定于應(yīng)用的寫(xiě)入模式和基板支架。制造高度超過(guò) 1 cm 的宏觀結(jié)構(gòu)和表面粗糙度低至 10 nm 的微觀結(jié)構(gòu)。

體素調(diào)優(yōu)功能:在掃描過(guò)程中對(duì)體素尺寸進(jìn)行微調(diào),以減少所需的層數(shù)。

3. 應(yīng)用

微光學(xué):無(wú)需拼接即可創(chuàng)建高精度微光學(xué)元件,確保無(wú)縫集成。

光子學(xué):將光子器件直接寫(xiě)入基板上,從而優(yōu)化器件性能和集成度。

細(xì)觀力學(xué):生產(chǎn)具有高精度和可靠性的復(fù)雜微機(jī)械結(jié)構(gòu)。

生物醫(yī)學(xué)工程:制造針對(duì)特定應(yīng)用量身定制的復(fù)雜生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和支架。

量子器件:開(kāi)發(fā)高精度和定制化的先進(jìn)量子器件,用于沿研究和應(yīng)用。

有掩膜光刻機(jī)

1.手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)$r$n2.高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻,

無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī)

無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī) 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù):$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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