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多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)
多腔等離子體刻蝕系統(tǒng)-概述：1.方案是適用于最大 8 吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統(tǒng)2.系統(tǒng)可用于研發(fā)和小批量生產3.系統(tǒng)兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:35:20 對比

等離子體刻蝕系統(tǒng)刻蝕系統(tǒng)
高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)
高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結構，采用行業(yè)優(yōu)質的軟件控制系統(tǒng)；4英寸鍍膜...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:33:23 對比

高真空互聯(lián)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)薄膜沉積系統(tǒng)物理氣相薄膜沉積系統(tǒng)
烤膠機
CIF烤膠機采用智能程序化控溫技術，控溫精準均勻，加熱快速高效，維修簡單方便，控溫范圍在室溫－360℃之間，控溫精度達到0.1℃。適用于各種控溫精度高，加熱均勻...
型號： PH22/35/2... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:29:07 對比

CIF烤膠機烤膠機
勻膠機
CIF勻膠機轉速穩(wěn)定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片...
型號： MSC/SC1/2 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:27:14 對比

CIF勻膠機勻膠機
掃描電鏡等離子清洗機
CIF掃描電鏡等離子清洗機采用遠程等離子清洗源設計，清洗快速、高效、低轟擊損傷，主要用于SEM或FIB等電鏡腔體內碳氫化合物的清洗。
型號： CIF-SEM 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:22:02 對比

等離子清洗機清洗機
等離子去膠機
CIF等離子去膠機采用電感耦合各向同性（各個方向）等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復雜的幾何構形都可以進行等離子體去膠。其外觀美學設計，結構緊湊，漂亮大氣，...
型號： SPB-5/plu... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:15:39 對比

等離子去膠機去膠機
反應離子刻蝕機
CIF推出RIE反應離子刻蝕機，采用RIE反應離子誘導激發(fā)方式，實現(xiàn)對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學，科研院所、微電子、半導體企業(yè)實驗室進行介質刻...
型號： RIE200/Pl... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:13:33 對比

反應離子刻蝕機刻蝕機
CIF 生產型等離子清洗機
CIF 生產型等離子清洗機是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設計的等離子體表面處理設備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產場景。適用于等離子清洗，活化以及刻...
型號： CPC15/35/... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:11:58 對比

生產型等離子清洗機等離子清洗機 CIF 等離子清洗機
全新CIF 實驗室型等離子清洗機
全新CIF 實驗室型等離子清洗機并非傳統(tǒng)等離子體清洗設備設計理念，可中試生產、模擬生產條件，幾乎具備等離子體清洗設備所有的功能。采用頂置真空倉，上開蓋下壓式鉸鏈...
型號： CPC-G/Gpl... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:09:41 對比

實驗室型等離子清洗機等離子清洗機
刻蝕機終點檢測系統(tǒng)
刻蝕機終點檢測系統(tǒng) 檢測原理：通過特定波長譜線的強度變化來反映是否達到刻蝕終點。
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:05:14 對比

刻蝕機終點檢測系統(tǒng)刻蝕
磁控濺射鍍膜機Sputter
磁控濺射鍍膜機Sputter應用領域：巨磁電阻（GMR）、組合材料科學（CMS）、半導體、超導體、納米級器件、光子學、光伏（PV）、OLED（發(fā)光二極管）、有機...
型號： customize... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 10:01:24 對比

磁控濺射鍍膜機
脈沖激光沉積鍍膜機PLD
脈沖激光沉積鍍膜機PLD系統(tǒng)主要由真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。
型號： customize... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 9:59:43 對比

脈沖激光沉積鍍膜機鍍膜機
電子束蒸發(fā)鍍膜機E-Beam
電子束蒸發(fā)鍍膜機E-Beam 概述：系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、...
型號： customize... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/5 9:58:11 對比

電子束蒸發(fā)鍍膜機鍍膜機
熱蒸發(fā)鍍膜機Thermal Evaporation
熱蒸發(fā)鍍膜機Thermal Evaporation 設備用途：熱蒸發(fā)是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并...
型號： customize... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 9:56:40 對比

熱蒸發(fā)鍍膜機鍍膜機
低壓化學氣相沉積系統(tǒng)LPCVD
低壓化學氣相沉積系統(tǒng)LPCVD 簡介：1. 滿足石墨烯和碳納米管研究的高溫和快速冷卻要求2. 直徑200毫米的石英室3. 內部石英管的設計便于拆卸和清洗4. 基...
型號： customize... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/5 7:53:49 對比

化學氣相趁機系統(tǒng)薄膜生長設備
晶圓甩干機
1.是高潔凈度的沖洗旋干設備。主要系應用于硅晶圓、掩模板、太陽能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設備具有單工作室、雙工作室兩種結構。2.產品類型：有立式單腔，雙腔...
型號： customize... 所在地：無錫市參考價：面議更新時間：2025/6/5 7:49:48 對比

晶圓甩干機甩干機沖洗旋干設備干法清洗泉一
分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE
分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)MBE 是在超高真空系統(tǒng)中把所需要的結晶材料放入到噴射爐中，將噴射爐加熱。使結晶材料形成分子束，從爐中噴出后，沉積在高溫的單晶基片上。如果...
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 7:31:46 對比

薄膜沉積系統(tǒng)分子束外延分子束外延沈陽科儀
化學氣相沉積MOCVD
MOCVD設備是通過將反應物質以有機金屬化合物氣體分子的形式，經載帶氣體送到反應室，進行熱分解反應而生長出薄膜材料。應用方向：Ga2O3,GaN, InP, G...
型號： customize... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/5 7:29:32 對比

化學氣相沉積氣相沉積設備愛思強
深硅刻蝕系統(tǒng)DEEP SI ETCH
提供深硅蝕刻（DSiE）領域的MEMS，封裝和納米技術的廣泛應用，從光滑側壁工藝到高刻蝕速率腔刻蝕、高深寬比工藝和錐形通孔刻蝕，不需要更換腔室硬件就可以實現(xiàn)。
型號： customize... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 7:27:22 對比

深硅刻蝕系統(tǒng)刻蝕設備刻蝕系統(tǒng)OXFORD
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE
離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 的靈活性、均勻性俱佳且應用范圍廣。我們的設備具有靈活的硬件選項，包括直開式、單襯底傳送模式和盒式對盒式模式。系統(tǒng)配置與實際應用緊密協(xié)調，以...
型號： Ionfab 30... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 7:25:11 對比

離子束刻蝕系統(tǒng)IBE 刻蝕設備 OXFORD

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