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枚葉式等離子CVD設(shè)備
枚葉式等離子CVD設(shè)備CMD系列CMD系列是用SiH4和TEOS成膜的a-Si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式CVD設(shè)備。
型號(hào)： CMD系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:43:22 對(duì)比

枚葉式等離子CVD設(shè)備鍍膜設(shè)備 CMD系列
Load-lock式Plasma CVD設(shè)備
Load-lock式Plasma CVD設(shè)備 CC-200/400Load-lock式Plasma CVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對(duì)應(yīng)從研究...
型號(hào)： CC-200/40... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:41:21 對(duì)比

CC-200/400 Load-lock式Plasma CVD設(shè)備鍍膜設(shè)備
枚葉式PECVD設(shè)備
枚葉式PECVD設(shè)備CME-200E/400枚葉式PE-CVD設(shè)備CME-200E/400是適用于Si系絕緣膜、barrier膜等成膜的量產(chǎn)用PECVD設(shè)備。
型號(hào)： CME-200E/... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:39:08 對(duì)比

枚葉式PECVD設(shè)備鍍膜設(shè)備
縱向式Cat-CVD設(shè)備
縱向式Cat-CVD設(shè)備CCV系列CCV Series是a-Si鍍膜用的縱向式CVD設(shè)備。有30年以上的量產(chǎn)實(shí)績(jī)。在各個(gè)chamber通過低壓鍍膜，得到高品質(zhì)的...
型號(hào)： CCV系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:37:06 對(duì)比

縱向式Cat-CVD設(shè)備 CCV系列鍍膜設(shè)備
卷繞式真空蒸鍍?cè)O(shè)備
卷繞式真空蒸鍍?cè)O(shè)備 EW系列塑料薄膜、紙、金屬箔等連續(xù)卷繞的同時(shí)，對(duì)金屬和氧化物進(jìn)行蒸鍍的成膜設(shè)備。從小型的實(shí)驗(yàn)機(jī)到大量的生產(chǎn)設(shè)備，此外，還提供一系列用于包裝材...
型號(hào)： EW系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:32:17 對(duì)比

EW系列卷繞式真空蒸鍍?cè)O(shè)備
卷繞式濺射設(shè)備
卷繞式濺射設(shè)備SPW系列SPW系列設(shè)備，是可在塑料薄膜上進(jìn)行光學(xué)膜、金屬膜等多層成膜的卷繞式設(shè)備。實(shí)施成膜室間的氣氛分隔，可以使高性能的多層膜一次性成膜。
型號(hào)： SPW系列所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:29:49 對(duì)比

卷繞式濺射設(shè)備 SPW系列
有機(jī)EL成膜設(shè)備SOLCIET
有機(jī)EL成膜設(shè)備SOLCIET, SATELLA, ZELDA系列。ULVAC面向有機(jī)EL材料開發(fā)提供實(shí)驗(yàn)用設(shè)備系統(tǒng)到量產(chǎn)Cluster系統(tǒng)設(shè)備和Inline系...
型號(hào)： SATELLA, ... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:23:28 對(duì)比

有機(jī)EL成膜設(shè)備SOLCIET 愛發(fā)科 ULVAC
緊湊型刻蝕設(shè)備
RIE-1C是用于半導(dǎo)體芯片故障分析的緊湊型刻蝕設(shè)備?？梢愿咝А⒌蛽p傷地去除鈍化膜。它操作簡(jiǎn)單，樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個(gè)過程。可以放在桌面上，也可...
型號(hào)： RIE-1C 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:05:08 對(duì)比

緊湊型刻蝕機(jī)RIE-1C SAMCO
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-300NR是一種理想的RIE等離子刻蝕設(shè)備，適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓（ø3“×12，ø4“×...
型號(hào)： RIE-300NR 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:02:54 對(duì)比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-300NR SAMCO
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備是在擁有豐富交貨業(yè)績(jī)的CCP RIE系統(tǒng) “RIE-10NR “的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對(duì)Si、Poly...
型號(hào)： RIE-200C 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:00:57 對(duì)比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-200C SAMCO
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
RIE-200NL是一種負(fù)載鎖定型的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復(fù)性，并允許腐蝕性氣體化學(xué)。優(yōu)化的工藝室設(shè)計(jì)可在ø8 “晶圓或ø22...
型號(hào)： RIE-200NL 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:58:44 對(duì)比

RIE等離子刻蝕系統(tǒng)RIE-200NL SAMCO
等離子體刻蝕設(shè)備
高密度等離子體刻蝕設(shè)備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
型號(hào)： RIE-800iP 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:56:54 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-800iP SAMCO
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動(dòng)RIE等離子刻蝕設(shè)備，它能滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。計(jì)算機(jī)化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲(chǔ)提供了一個(gè)用戶友...
型號(hào)： RIE-10NR 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:55:13 對(duì)比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-10NR SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式，等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備高速進(jìn)行各種材料的超精細(xì)加工的負(fù)載鎖定型ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風(fēng)式線圈電...
型號(hào)： RIE-230iP 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:53:29 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-230iP SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-230iPC是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進(jìn)行各種材料的超精細(xì)加工的盒式ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風(fēng)式線圈電，高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子...
型號(hào)： RIE-230iP... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:51:07 對(duì)比

RIE-230iPC 等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-400iP是用于ø4 “晶圓的負(fù)載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備可對(duì)各種半導(dǎo)體和絕緣膜進(jìn)行高精度、高均勻性加工。采用龍卷風(fēng)線圈的電...
型號(hào)： RIE-400iP 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:48:38 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-400iP SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設(shè)備，可處理多達(dá)ø350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應(yīng)用提供了堅(jiān)固...
型號(hào)： RIE-350iP... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:46:44 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-350iPC SAMCO
等離子體刻蝕設(shè)備
高密度等離子體刻蝕設(shè)備系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
型號(hào)： RIE-800iP... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:44:47 對(duì)比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 SAMCO RIE-800iPC
深硅刻蝕設(shè)備
RIE-400iPB是一款電感耦合等離子體放電設(shè)備，用于博世MEMS和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是為研究和開發(fā)目的而改裝的。該系統(tǒng)由R...
型號(hào)： RIE-400iP... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:42:34 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-400iPB SAMCO
電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備
Samco 的 RIE-800iPB 是一種電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備，使用高密度等離子體進(jìn)行 MEMS 和 TSV 應(yīng)用所需的深度硅蝕刻。RIE-800iPB是...
型號(hào)： RIE-800iP... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 13:40:51 對(duì)比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-800iPB SAMCO

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