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深圳市矢量科學儀器有限公司

快速退火爐

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號RTP-100-EP

品牌UNITEMP/尤尼坦

廠商性質經銷商

所在地德國

更新時間:2025-06-06 09:04:19瀏覽次數(shù):531次

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德國UNITEMP研發(fā)的符合真空標準的快速退火爐RTP-100-EP,升溫速率高達 200 K/sec。主要特點:良好的溫度均勻性、精確控制的斜坡上升速率和快速斜坡下降速率、工藝周轉時間短、舒適的氣體控制、臺式系統(tǒng),占地面積小

1 產品概述:

      快速退火爐,又稱RTPRapid Thermal Processing)快速熱處理爐,是一種用于快速熱處理、熱氧化處理、高溫退火等工藝的設備。它利用鹵素紅外燈等高效熱源,通過極快的升溫速率(可達150攝氏度/秒)和精確的溫控系統(tǒng),將晶圓或材料快速加熱到所需溫度(最高可達1200攝氏度),并在短時間內完成退火過程,從而消除材料內部缺陷,改善產品性能。快速退火爐廣泛應用于半導體、LED、MEMS、化合物半導體和功率器件等多種芯片產品的生產中,是現(xiàn)代微電子制造領域重要設備。

2 設備用途:

1、快速熱處理(RTP):用于對晶圓或材料進行快速加熱和冷卻處理,以改善晶體結構和光電性能。

2、快速退火(RTA):通過快速升溫和降溫過程,消除材料內部的應力、缺陷和雜質,提高材料的性能。

3 、熱氧化處理(RTO):在特定氣氛下對材料進行加熱處理,形成所需的氧化物層。

4、離子注入/接觸退火:在離子注入后對材料進行退火處理,以激活注入的離子并改善材料的電學性能。

5、 金屬合金化:如SiAu、SiAl、SiMo等合金的制備過程中,通過快速退火促進合金化反應。

6、 化合物合金制備:如砷化鎵、氮化物等化合物的合金制備過程中,快速退火爐也發(fā)揮著重要作用生。同時,加熱還可以促進化學反應的進行,提高處理效果。

3. 設備特點

  1 高效加熱與快速升降溫:采用鹵素紅外燈等高效熱源,升溫速率快,最高可達150攝氏度/秒;降溫速率也快,如從1000攝氏度降到300攝氏度僅需幾分鐘。

  2 高精度溫控系統(tǒng):采用優(yōu)良的微電腦控制系統(tǒng)和PID閉環(huán)控制溫度,控溫精度可達±0.5攝氏度,溫控均勻性≤0.5%設定溫度。

  3 多功能性與靈活性:可根據用戶工藝需求配置真空腔體、多路氣體等,滿足不同工藝條件的需求。

  4 低污染與環(huán)保:試樣反應區(qū)處在一個密閉的石英腔體內,大大降低了間接污染試樣的可能性;同時,設備在設計和制造過程中注重環(huán)保理念,減少了對環(huán)境的污染。

  5 操作簡便與自動化:配備可視化觸摸屏和智能控制系統(tǒng),設定數(shù)據和操作都是圖文界面,操作方便;同時,可實現(xiàn)單臺或多臺電爐的遠程控制、實時追蹤、歷史記錄、輸出報表等功能。

4  設備參數(shù):

  • 適用于大 100 毫米(4 英寸)的單晶圓

  • 由石英玻璃制成的工藝室

  • 帶集成氣體入口和出口

  • 包括一條帶氮氣質量流量控制器的過程氣體管路(5 nlm = 標準升/分鐘)

  • h由頂部和底部紅外加熱,每個加熱帶 9 個燈和 14 kW

  • 頂部和底部加熱

  • 外部泵系統(tǒng)的真空度高達 10E-3      hPa

  • SPS 過程控制器,帶 50 個程序,每個程序多 50 個步驟(以太網接口),SIMATIC

  • 7 英寸觸摸屏,便于編程和過程控制

  • 高氣溫 1200 °C

  • 通過熱電偶進行溫度控制

  • 需要水冷

  • 電氣連接類型:2 x 32 A CEE      插頭(3x 230 V,3 相,N,PE,18 kW

  • 烤箱尺寸:504 x 521 x      576 毫米(寬 x x 高)

  • 重量: 60 kg


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