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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

當(dāng)前位置:深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>3 CVD>> Pishow® A 系列8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備

8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號Pishow® A 系列

品牌魯汶

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地徐州市

更新時間:2025-06-05 21:28:05瀏覽次數(shù):523次

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詳細(xì)介紹
ICP是一種加工微納結(jié)構(gòu)的8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優(yōu)點。目前被廣泛應(yīng)用于Si、SiO2、SiNx、金屬、III-V族化合物等材料的刻蝕。可應(yīng)用于大規(guī)模集成電路、MEMS、光波導(dǎo)、光電子器件等領(lǐng)域中各種微結(jié)構(gòu)的制作。

Pishow® A 系列

8英寸電感耦合等離子體刻蝕(ICP)設(shè)備 

1. 詳細(xì)介紹

ICP是一種加工微納結(jié)構(gòu)的等離子刻蝕技術(shù)。具有刻蝕快、選擇比高、各項異性高、刻蝕損傷小、均勻性好、斷面輪廓可控性高、刻蝕表面平整度高等優(yōu)點。目被廣泛應(yīng)用于Si、SiO2、SiNx、金屬、III-V族化合物等材料的刻蝕??蓱?yīng)用于大規(guī)模集成電路、MEMS、光波導(dǎo)、光電子器件等域中各種微結(jié)構(gòu)的制作。

2. 系統(tǒng)特性

擁有多種材料刻蝕解決方案,包括硅基材料、金屬、III-V和其他化合物半導(dǎo)體

可提供高低溫(-10℃至+150℃)工藝模式

可提供ALE解決方案,實現(xiàn)對刻蝕速率和均勻性的高精度控制

具備Bosch工藝能力,可提供高深寬比硅深槽或深孔刻蝕解決方案

適用于8英寸晶圓,并可向下兼容,提供單腔式和多腔式等多種腔室搭配方式        



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