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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

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12英寸金屬刻蝕設(shè)備

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號Herent® Chimera® M

品牌魯汶

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地徐州市

更新時間：2025-06-05 21:22:06瀏覽次數(shù)：535次

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Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設(shè)備，為針對12英寸IC產(chǎn)業(yè)0.18微米以下后道高密度鋁導(dǎo)線互連工藝所開發(fā)的專用產(chǎn)品， 同時也可應(yīng)用于鋁墊（Al pad）刻蝕。該設(shè)備承襲了 Chimera® A 的先進設(shè)計理念，具有出色的均勻性調(diào)控手段， 可以為客戶提供高性價比的解決方案。

1. 系統(tǒng)特性

Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設(shè)備是面向12英寸集成電路制造的量產(chǎn)型設(shè)備

設(shè)備由電感耦合等離子體刻蝕腔（ICP etch chamber）、去膠腔（strip chamber）、傳輸模塊（transfer module）構(gòu)成

適用于0.18微米及其他技術(shù)代邏輯應(yīng)用中的高密度鋁導(dǎo)線工藝，以及鋁墊刻蝕

2. 詳細介紹

Herent® Chimera® M 金屬刻蝕設(shè)備，為針對12英寸IC產(chǎn)業(yè)0.18微米以下后道高密度鋁導(dǎo)線互連工藝所開發(fā)的用產(chǎn)品， 同時也可應(yīng)用于鋁墊（Al pad）刻蝕。該設(shè)備承襲了 Chimera® A 的先進設(shè)計理念，具有出色的均勻性調(diào)控手段， 可以為客戶提供高性價比的解決方案

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