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等離子刻蝕集群系統(tǒng)

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號SENTECH 集群系統(tǒng)

品牌SENTECH

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地德國

更新時間:2025-06-06 09:46:34瀏覽次數(shù):529次

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SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉(zhuǎn)移室和一個真空負載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內(nèi)的轉(zhuǎn)移室有三到六個端口。最多可以使用兩個盒式磁帶站來提高吞吐量。

1. 產(chǎn)品概述

SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉(zhuǎn)移室和一個真空負載鎖或盒式站。包括搬運機器人在內(nèi)的轉(zhuǎn)移室有三到六個端口。多可以使用兩個盒式磁帶站來提高吞吐量。

2. 主要功能與優(yōu)勢

高產(chǎn)量和高通量

等離子蝕刻和沉積模塊可以與多達兩個盒式工作站結(jié)合使用,以提高可重復(fù)性、高產(chǎn)量和高吞吐量處理高達 200 毫米的晶圓。

靈活的流程配置

三到六個端口轉(zhuǎn)移室可用于聚集ICP等離子蝕刻系統(tǒng)、RIE蝕刻系統(tǒng)、原子層沉積系統(tǒng)和ICPECVD沉積工具,以滿足研發(fā)和生產(chǎn)的要求。樣品可以通過真空裝載鎖和/或真空盒站進行裝載。

靈活的承運商處理

SENTECH集群配置適用于處理不同尺寸的晶圓,無需更改硬件,使用允許He-back-backing冷卻的載體。不同間距的晶圓盒也是可以互換的

3. 靈活性和模塊化

SENTECH 集群配置可用于處理直徑從 100 毫米晶圓到直徑達 200 毫米的各種基板。

這些系統(tǒng)提供不同別的自動化,從真空盒裝載到多六端口集群配置的單工藝腔室,不同的蝕刻和沉積模塊提供高靈活性和高吞吐量。

所有SENTECH集群系統(tǒng)均由先進的硬件和SIA操作軟件控制,具有客戶端-服務(wù)器架構(gòu)。一個經(jīng)過充分驗證的可靠可編程邏輯控制器(PLC)用于所有組件的實時控制。

深硅刻蝕機

深硅刻蝕機PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕,同時兼具Bosch

深硅刻蝕機

深硅刻蝕機HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結(jié)

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SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉(zhuǎn)移室和一

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