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化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)CCS系統(tǒng)

品牌愛(ài)思強(qiáng)

廠商性質(zhì)經(jīng)銷(xiāo)商

所在地德國(guó)

更新時(shí)間:2025-06-05 19:17:12瀏覽次數(shù):439次

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化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)

用于研發(fā)的封閉耦合淋浴噴頭® CCS系統(tǒng)
“用于研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)的靈活MOCVD系統(tǒng)"

1 產(chǎn)品概述:

      化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)是一類(lèi)專門(mén)用于制備化合物半導(dǎo)體材料的設(shè)備,這些材料通常由兩種或多種元素組成,如GaAs、GaNSiC等。這些材料因其高功率、高頻率等特性,在信息通信、光電應(yīng)用以及新能源汽車(chē)等產(chǎn)業(yè)中占據(jù)重要地位。

2 設(shè)備用途:

化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)的主要用途包括:

  1. 晶圓制備:通過(guò)外延生長(zhǎng)技術(shù),在襯底上沉積高質(zhì)量的化合物半導(dǎo)體薄膜,用于制造高性能的半導(dǎo)體器件。

  2. 芯片設(shè)計(jì)與制造:支持化合物半導(dǎo)體器件的設(shè)計(jì)與制造過(guò)程,包括射頻功率放大器、高壓開(kāi)關(guān)器件等。

  3. 光電器件:用于制造太陽(yáng)電池、半導(dǎo)體照明、激光器和探測(cè)器等光電器件。

  4. 微波射頻:在移動(dòng)通信、導(dǎo)航設(shè)備、雷達(dá)電子對(duì)抗以及空間通信等系統(tǒng)中,化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)用于制造射頻功率放大器等核心組件。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)通常具備以下特點(diǎn):

  1. 高精度與均勻性:

      沉積均勻性:能夠?qū)崿F(xiàn)晶圓級(jí)的高沉積均勻性,確保薄膜厚度和質(zhì)量的一致性。

      精確控制:通過(guò)調(diào)節(jié)沉積參數(shù),如溫度、壓力、氣體流量等,可以精確控制薄膜的化學(xué)成分、形貌、晶體結(jié)構(gòu)和晶粒度。

  1. 多功能性:

      多種沉積方法:支持化學(xué)氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)等多種沉積方法,滿足不同材料和器件的制備需求。

      多種薄膜材料:能夠沉積金屬薄膜、非金屬薄膜、多組分合金薄膜以及陶瓷或化合物層等多種薄膜材料。

  1. 高溫與低溫兼容性:

      高溫沉積:部分設(shè)備能夠在高溫下工作,確保薄膜的結(jié)晶質(zhì)量和純度。

      低溫輔助:采用等離子或激光輔助技術(shù),可以降低沉積溫度,保護(hù)基體材料不受高溫?fù)p傷。

  1. 高效與自動(dòng)化:

      高吞吐量:通過(guò)優(yōu)化設(shè)計(jì)和自動(dòng)化控制,提高生產(chǎn)效率,降低生產(chǎn)成本

設(shè)備參數(shù):

·         晶圓尺寸配置包括 3x2 英寸、6x2 英寸、19x2 英寸等多種規(guī)格。

·         具有動(dòng)態(tài)工藝間隙調(diào)整功能,高工作溫度可達(dá) 1400°C(部分型號(hào))

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