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產(chǎn)品分類(lèi)品牌分類(lèi)

半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備: 耗材 7 真空互聯(lián)系統(tǒng) 6 晶圓鍵合工藝設(shè)備 5 刻蝕設(shè)備 4 外延系統(tǒng) 3 CVD 2 PVD 1 光刻設(shè)備

半導(dǎo)體封裝設(shè)備: 封裝設(shè)備

半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備: 分析測(cè)試設(shè)備

半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表: 光電測(cè)試設(shè)備

其他前道工藝設(shè)備: 7 CMP 9 倒片機(jī) 3 鍍膜設(shè)備 8 氧化設(shè)備、退火設(shè)備 10 其他 6 清洗設(shè)備 5 去膠設(shè)備 4 離子注入設(shè)備 1 蒸發(fā)設(shè)備 2 真空干燥設(shè)備

二手翻新設(shè)備: 1 光刻機(jī)

半導(dǎo)體可靠性測(cè)試設(shè)備: 可靠性測(cè)試設(shè)備

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北方華創(chuàng)
KEYSIGHT/美國(guó)是德
ULVAC/日本愛(ài)發(fā)科
SAMCO
Veeco
SENTECH
沈陽(yáng)科儀
特思迪
UNITEMP/尤尼坦
SUSS
Nikon/日本尼康
其他品牌
OXFORD/英國(guó)牛津
PVA TePla
LEBO/雷博
CIF
Beneq
魯汶
芯源
KURT.J.LESKER
響河
Laurell
STELLA/海德堡儀器
G&P
Yxlon
韓國(guó)真空/IOKOVA
托托科技
ELIONIX
矢量科學(xué)
愛(ài)思強(qiáng)
MPI
英斯特
Angstrom
ADT
RIBER
ESPEC/愛(ài)斯佩克
Formfactor
珞佳智能
Canon/佳能
KOSAKA/小坂研究所
智程
ERS
PVD
AdNaNo/鎧柏
Hitachi/日立
HORIBA/堀場(chǎng)
美國(guó)標(biāo)樂(lè)
ficonTEC
博捷芯
F&S
華卓精科
至純
Scienta Omicron
TRESKY
米開(kāi)羅那
尼普洛
泉一
Raith
NORDSON/美國(guó)諾信
KEYENCE/基恩士
Coherent
MTS/美國(guó)美特斯
ZEISS/蔡司
Bruker/布魯克
Kruss/克呂士
FEI/賽默飛
日本電子
Rigaku/理學(xué)
天仁微納

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供應(yīng)簡(jiǎn)介詳細(xì)介紹

對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700

對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。（可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）

對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700

對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral loop discharge）等離子源的量產(chǎn)用干法刻蝕裝置。（可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)生低壓、低電子溫度、高密度的等離子）

產(chǎn)品特性 / Product characteristics
• 在潔凈房?jī)?nèi)作業(yè)可擴(kuò)張為雙腔。（可選配腔室：NLD、有磁場(chǎng)ICP、CCP或者去膠室）
•NLD為時(shí)間空間可控的等離子，因此設(shè)備干法清潔容易。
•腔體維護(hù)簡(jiǎn)便。
•從掩?？涛g到石英、玻璃刻蝕，可提供各類(lèi)工藝解決方案。
•門(mén)的半導(dǎo)體技術(shù)研究所會(huì)提供完備的工藝支持體制。
產(chǎn)品應(yīng)用 / Product application
•光學(xué)器件（折射格子、光波導(dǎo)、光學(xué)開(kāi)關(guān)等等）、凹凸型微透鏡。
•流體路徑作成或光子學(xué)結(jié)晶。
產(chǎn)品參數(shù) / Product parameters

1、公司介紹

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司成立于 2020年，由武漢大學(xué)團(tuán)隊(duì)孵化，致力泛半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)線、中試線、生產(chǎn)線裝備及工藝和廠務(wù)技術(shù)服務(wù)于一體的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)、創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)。

公司主要業(yè)務(wù)如下:

裝備銷(xiāo)售:半導(dǎo)體道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試裝備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表。

設(shè)備服務(wù):駐場(chǎng)或者 oncall，裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持。

廠務(wù)服務(wù):駐場(chǎng)或者 oncall，人力服務(wù)及廠務(wù)二次配工程。

經(jīng)歷五年高速發(fā)展，2023 年?duì)I業(yè)額達(dá) 3.2 億，連年復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá) 300%，現(xiàn)處于穩(wěn)定擴(kuò)張期。

2、成長(zhǎng)歷程

•2020年（公司成立年）

•2300萬(wàn)訂單額

2021年 7000萬(wàn)訂單額

2022年 2.5億訂單額

2023年3.2億訂單額

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

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