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深圳市矢量科學儀器有限公司

當前位置:深圳市矢量科學儀器有限公司>>其他前道工藝設備>>7 CMP>> GNP GPC-300A全自動CMP晶圓清洗一體機

全自動CMP晶圓清洗一體機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號GNP GPC-300A

品牌G&P

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地韓國

更新時間:2025-06-06 11:50:12瀏覽次數(shù):460次

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韓國G&P的全自動CMP晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。

規(guī)格:

拋光機部分機頭,工作臺:30- 200rpm,旋轉(zhuǎn)運動,機頭振蕩(±15mm)

拋光機尺寸:1626 *1500 *1950毫米

重量:2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸),特氟龍涂層鋁

壓制方式:可變空氣

壓力電子控制器膜類型:70-350/平方厘米(1 psi~5 psi)12"晶圓片

CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOS、SC)、金屬CMP(W、Cu)、STI、PGI

可添加選項

墊式調(diào)理方法:擺頭式或擺臂式

單頭或雙頭系統(tǒng)

摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)

清潔:

清洗機尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米

重量:1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內(nèi)徑)320()毫米

配置:獨立配置4個清洗工位,DIW刀預清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋漂干

預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學:nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過刷子

可用化學:4化學

化學品流量:滿量程< 1l /min

DI流量:滿量程< 10l /min

轉(zhuǎn)站

旋轉(zhuǎn)速度:最高2500轉(zhuǎn)/

DIW沖洗/ N2(可選:)

控制

工藝:自動上片,自動順序,濕進/干出

程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控,程序可編程,計算機網(wǎng)絡可比



1. 規(guī)格

拋光機部分機頭,工作臺:30- 200rpm,旋轉(zhuǎn)運動,機頭振蕩(±15mm)

拋光機尺寸:1626 *1500 *1950毫米

重量:2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸),特氟龍涂層鋁

壓制方式:可變空氣

壓力電子控制器膜類型:70-350/平方厘米(1 psi~5 psi)12"晶圓片

CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOSSC)、金屬CMP(W、Cu)、STI、PGI

2. 可添加選項

墊式調(diào)理方法:擺頭式或擺臂式

單頭或雙頭系統(tǒng)

摩擦力和溫度監(jiān)測系統(tǒng)

3. 清潔

清洗機尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米

重量:1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內(nèi)徑)320()毫米

配置:獨立配置4個清洗工位,DIW刀預清洗,2個雙面滾刷清洗,N2吹旋漂干

預清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學:nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過刷子

可用化學:4化學

化學品流量:滿量程< 1l /min

DI流量:滿量程< 10l /min

轉(zhuǎn)站

旋轉(zhuǎn)速度:2500轉(zhuǎn)/

DIW沖洗/ N2(可選:強掃)

控制

工藝:自動上片,自動順序,濕進/干出

程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控,程序可編程,計算機網(wǎng)絡可比

CMP

G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運用于研發(fā),

CMP

GnP POLI-610專為藍寶石等復合晶圓的CMP工藝開發(fā)而設計。特

CMP

GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而

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