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深圳市矢量科學儀器有限公司

離子束刻蝕機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號EIS-200ERP

品牌ELIONIX

廠商性質經銷商

所在地日本

更新時間:2025-06-06 07:18:17瀏覽次數(shù):410次

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EIS-200ERP是由ELIONIX研發(fā)的離子束刻蝕機,緊湊和高性能,使用 ECR 離子束可以進行納米蝕刻和沉積,制品特微。

1 產品概述:

   離子束刻蝕設備是一種高精度的材料加工設備,它利用經過電場加速的高能離子束對樣品表面進行物理轟擊,從而實現(xiàn)材料的精細刻蝕。這種設備廣泛應用于物理學、工程與技術科學基礎學科、測繪科學技術、航空、航天科學技術等多個領域,成為現(xiàn)代微納米加工技術中的重要工具。

2 設備用途:

  1. 材料加工:離子束刻蝕設備可以對多種材料進行精細加工,包括硅、石英、半導體、金屬、非金屬硬質薄膜等。通過控制離子束的能量、束流密度和刻蝕時間等參數(shù),可以精確控制刻蝕深度和形貌,實現(xiàn)微米甚至納米量級的加工精度。

  2. 微結構制作:該設備具有制作微結構圖形的能力,如光柵、微透鏡陣列等。在光學、電子學等領域中,這些微結構對于提高器件性能具有關鍵作用。

  3. 樣品表面處理:離子束刻蝕還可以用于清洗材料表面有機物、氧化物等污染物,提升材料表面的親水性、粘接力和附著力。這對于提高樣品的質量和分析精度具有重要意義。

3 設備特點

  高精度:離子束刻蝕設備能夠實現(xiàn)高精度的材料加工和微結構制作。通過精確控制離子束的參數(shù),可以實現(xiàn)微米甚至納米量級的加工精度。

  多材料適應性:該設備可以處理多種材料,包括硅、石英、半導體、金屬、非金屬硬質薄膜等。這種廣泛的材料適應性使得離子束刻蝕設備在多個領域中得到廣泛應用。

  高靈活性:離子束刻蝕設備通常配備有先進的控制系統(tǒng)和樣品臺,可以實現(xiàn)多種加工模式和工藝參數(shù)的靈活調整。這為用戶提供了更多的選擇和便利。

  高穩(wěn)定性:設備在長時間運行過程中能夠保持較高的穩(wěn)定性和可靠性。這有助于確保加工質量和生產效率的穩(wěn)定。
4
技術參數(shù)和特點:

離子槍

ECR型離子槍

電離氣體

ArXe等、惰性離子種類的氣體 

N2O2C3F8等、活性離子種類的氣體

加速電壓

100 ~ 3000 V 連續(xù)可變

離子流密度

Ar: 1.5 mA/cm2 以上 (2kV加速時)

O2: 2.0 mA/cm2 以上 (2kV加速時)

離子束有效直徑

Φ 20 mm (FWHM 35 mm)

離子流穩(wěn)定性

±5 / 2 H

大試樣尺寸

Φ 4英寸


深硅刻蝕機

深硅刻蝕機PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕,同時兼具Bosch

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深硅刻蝕機HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結

等離子刻蝕集群系統(tǒng)

SENTECH 集群系統(tǒng)包括等離子體蝕刻和/或沉積模塊、一個轉移室和一

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