一 ACS200 Gen3 涂布機(jī)和顯影劑

多功能底架提供了多種配置可能性，例如，多達(dá) 4 個(gè)濕法工藝模塊（涂布機(jī)和/或顯影劑），最多可容納 19 塊板，或者 2 個(gè)濕法工藝模塊和 2 個(gè)噴涂機(jī)模塊，最多可容納 13 塊板。

ACS200 Gen3 可以在每個(gè)濕法工藝模塊上堆疊多達(dá) 3 塊板，在第 5 個(gè)模塊中最多堆疊 7 塊板，從而實(shí)現(xiàn)了同類產(chǎn)品中最大的模塊數(shù)量。

不同的 I/O 系統(tǒng)可滿足任何需求。2x I/O滿足研發(fā)要求，而新設(shè)計(jì)的自動(dòng)裝載盒站可實(shí)現(xiàn)連續(xù)運(yùn)行，而無需停止系統(tǒng)進(jìn)行盒更換。

涂布機(jī)碗提供開放式碗涂層和 GYRSET® 封閉式涂層技術(shù)。轉(zhuǎn)鼓設(shè)計(jì)提供了使用一次性工藝轉(zhuǎn)鼓進(jìn)行操作的可能性，而不會(huì)影響流量動(dòng)態(tài)或排氣流量。由于轉(zhuǎn)鼓易于清潔并減少了維護(hù)時(shí)間，因此它簡(jiǎn)化了使用不方便或不尋常材料的操作。ACS200 Gen3 可以在每個(gè)涂布機(jī)模塊的 2 個(gè)不同的分配臂上分離溶劑和抗蝕劑線，因此遵循了提供出色產(chǎn)量的道路。

對(duì)于開發(fā)應(yīng)用，可以配置水性或溶劑顯影劑模塊。有多種不同的噴嘴類型可供選擇，以滿足任何工藝要求。

與SUSS曝光系統(tǒng)的直接連接可提高產(chǎn)量，因?yàn)橥暾墓饪坦に嚵鞒虩o需操作員干預(yù)。

可選的過濾風(fēng)扇單元和工具的溫度/濕度控制可實(shí)現(xiàn)工藝穩(wěn)定性、可重復(fù)性，并最終實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量。

二、企業(yè)簡(jiǎn)介：

深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測(cè)試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測(cè)試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項(xiàng)，軟件著作權(quán) 14 項(xiàng)，是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。