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深圳市矢量科學儀器有限公司

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CMP拋光機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協議為準

產品型號TMP-150A/200A

品牌特思迪

廠商性質經銷商

所在地北京市

更新時間:2025-06-05 20:47:31瀏覽次數:423次

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CMP拋光機是一款針對薄膜(介質層)的拋光設備,操作便捷,兼容性強,通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容,采用手動裝片方式,可配置半自動loading系統(tǒng),氣囊薄膜柔性加壓,用于氧化物、金屬、STI、SOI、MEMS等產品的平坦化拋光,應用廣泛

1.  產品概述:

CMP拋光機,全稱為化學機械拋光機,是一種針對薄膜(如介質層)進行拋光處理的設備。它結合了化學刻蝕和機械摩擦的綜合作用,通過精確控制拋光過程中的化學和機械參數,實現對晶圓表面材料的精細去除和平坦化處理。CMP拋光機具有操作便捷、兼容性強等特點,能夠根據不同尺寸和類型的晶圓進行適配,并通過更換拋光壓頭等方式實現多種拋光工藝的需求。

2.  設備用途/原理:

CMP拋光機在半導體制造中扮演著至關重要的角色,其主要用途包括:

1. 晶圓表面平坦化:在集成電路制造過程中,CMP拋光機用于對晶圓表面進行平坦化處理,以消除表面起伏和缺陷,提高晶圓表面的平整度。這對于后續(xù)工藝步驟的順利進行和芯片性能的提升至關重要。

2. 薄膜厚度控制:CMP拋光機能夠精確控制晶圓表面薄膜的厚度,確保薄膜厚度達到設計要求。這對于提高芯片的性能和可靠性具有重要意義。

3. 特殊材料加工:除了集成電路制造外,CMP拋光機還廣泛應用于3D封裝技術、特殊材料加工等領域。例如,在3D封裝技術中,CMP拋光機用于處理芯片之間的連接面,以確保連接的精確性和可靠性。

3.  設備特點

CMP拋光機具有以下幾個顯著特點:

1  高精度控制:CMP拋光機采用先進的控制系統(tǒng)和精密的機械結構,能夠實現對拋光過程中各項參數的精確控制。這包括拋光壓力、拋光盤轉速、拋光頭轉速等關鍵參數,從而確保拋光效果的穩(wěn)定性和一致性。

2 多工藝兼容:CMP拋光機具有較強的兼容性,能夠根據不同材料和工藝的需求進行適配。通過更換拋光壓頭、調整拋光液配方等方式,CMP拋光機可以實現對多種材料和工藝的拋光處理。

3 自動化程度高:現代CMP拋光機通常配備有自動化上下片系統(tǒng)、自動清洗系統(tǒng)等輔助設備,能夠實現拋光過程的自動化操作。這不僅提高了生產效率,還降低了人工操作帶來的誤差和風險。

4 環(huán)保節(jié)能:CMP拋光機在設計和制造過程中注重環(huán)保和節(jié)能。例如,采用低能耗的電機和傳動系統(tǒng)、優(yōu)化拋光液配方以減少廢液排放等措施,都有助于降低設備運行過程中的能耗和環(huán)境污染。

綜上所述,CMP拋光機作為半導體制造領域的重要設備之一,具有高精度控制、多工藝兼容、自動化程度高和環(huán)保節(jié)能等特點。隨著半導體技術的不斷發(fā)展和進步,CMP拋光機也將不斷升級和完善,為半導體制造行業(yè)的發(fā)展提供更加有力的支持。
4. 設備參數

規(guī)格/參數

TMP-150A

TMP-200A

晶圓尺寸

4/6 inch

4/6/8 inch

拋光盤規(guī)格

OD406 mm

OD508 mm

拋光盤轉速

0-120 RPM

0-120 RPM

拋光頭轉速

0-120 RPM

0-120 RPM

wafer氣囊壓力

70-500 g/cm2

70-500 g/cm2

保持環(huán)壓力

70-700 g/cm2

70-700 g/cm2

半自動上下片

修整器

擺臂式金剛石修整器

擺臂式金剛石修整器

修整器轉速

0-80 RPM

0-80 RPM



CMP

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CMP

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