您好, 歡迎來到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費注冊| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
當前位置：深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司>>半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備>>3 CVD>> Scaler HK430熱原子層沉積系統(tǒng)
| 參 考 價: | 面議 |
產(chǎn)品型號Scaler HK430
品牌北方華創(chuàng)
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所在地北京市
更新時間：2025-06-05 12:35:34瀏覽次數(shù)：480次
聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)1. 產(chǎn)品概述
Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性。
2. 設(shè)備用途/原理
Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性，腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計，具備良好的防酸腐蝕能力，優(yōu)化機臺結(jié)構(gòu)，縮小占地面積。友好的人機交互和安全性設(shè)計保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效。
3. 設(shè)備特點
晶圓尺寸 12 英寸，適用材料 氧化鉿、氧化鋯、氧化鋁，適用工藝 柵介質(zhì)層、介質(zhì)層、鈍化層，適用域 科研、集成電路、優(yōu)良封裝。原子層沉積（Atomic layer deposition）是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學(xué)沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學(xué)反應(yīng)是直接與之前一層相關(guān)聯(lián)的，這種方式使每次反應(yīng)只沉積一層原子。
 |
 |
 |
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實性、準確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負責(zé)，化工儀器網(wǎng)對此不承擔任何保證責(zé)任。
溫馨提示：為規(guī)避購買風(fēng)險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
| 評價時間 | 類別 | 詳細內(nèi)容 | 評價者 | IP地址 |
化工儀器網(wǎng)