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深圳市矢量科學儀器有限公司

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CCP介質刻蝕機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號NMC 508系列

品牌北方華創(chuàng)

廠商性質經(jīng)銷商

所在地北京市

更新時間:2025-06-05 12:29:43瀏覽次數(shù):521次

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NMC 508系列 CCP介質刻蝕機,多頻解耦設計,實現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質刻蝕。

1. 產(chǎn)品概述

NMC 508系列 CCP介質刻蝕機,多頻解耦設計,實現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質刻蝕。

2. 設備用途/原理

NMC 508系列 CCP介質刻蝕機,多頻解耦設計,實現(xiàn)優(yōu)異的均勻性及高深寬比介質刻蝕應用域廣泛,涵蓋Si power、SiC Power、GaN Power、MEMS、硅光等。工藝種類覆蓋道HM刻蝕、CT刻蝕、Spacer刻蝕,后道Via刻蝕、PAD刻蝕。靈活的系統(tǒng)配置,適合研發(fā)、中試線、大規(guī)模生產(chǎn)線的不同應用。采用Clean Mode量產(chǎn),道、后道均可實現(xiàn)優(yōu)異的量產(chǎn)穩(wěn)定性及更高的MTBC。

3. 設備特點

晶圓尺寸 6/8 英寸兼容。適用材料 氧化硅、氮化硅、氮氧化硅。適用工藝 鈍化層刻蝕、硬掩膜刻蝕、接觸孔刻蝕、導線孔刻蝕、側襯刻蝕、回刻、自對準刻蝕。適用域 科研、集成電路、化合物半導體。

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