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掃描式光刻機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號Nikon S204B

品牌Nikon/日本尼康

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時間:2025-06-05 11:12:43瀏覽次數(shù):1178次

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1、Nikon S204B掃描式光刻機
光源波長248nm
分辨率優(yōu)于0.18µm
主要用于4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線
廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等領域
2、產(chǎn)品詳情
主要技術指標
分辨率0.18µm
N.A.0.68
曝光光源248nm
倍率4:1
最大曝光現(xiàn)場25mm*33mm
對準精度
LSA:40nm
FIA:45nm

一、產(chǎn)品概述:

Nikon S204B 掃描式光刻機是一款高效的半導體制造設備,專為 200mm 晶圓的生產(chǎn)設計。該機型采用先進的掃描光刻技術,能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率和精確的圖案轉移,廣泛應用于集成電路、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其快速曝光速度和良好的穩(wěn)定性,S204B 非常適合大批量生產(chǎn)。同時,其用戶友好的操作界面和自動化功能降低了操作難度,提升了生產(chǎn)效率,使得 Nikon S204B 成為現(xiàn)代半導體制造過程中的重要工具,滿足行業(yè)對高質(zhì)量和高效率的需求。

二、設備用途/原理:

該設備通過高強度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發(fā)出特定波長的光線,經(jīng)過高分辨率光學系統(tǒng),精確地掃描掩模并將圖案投影到晶圓上。曝光后,光刻膠的化學性質(zhì)發(fā)生變化,隨后進行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,從而形成所需的圖案。接著,利用刻蝕工藝將圖案轉移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。通過這一系列步驟,Nikon S204B 能夠高效地實現(xiàn)復雜圖形的精確轉移,滿足現(xiàn)代半導體制造的高標準要求。

三、主要技術指標

分辨率

0.18µm

N.A.

0.68

曝光光源

248nm

倍率

4:1

大曝光現(xiàn)場

25mm*33mm

對準精度

LSA:40nm

FIA:45nm

四、設備特點

Nikon S204B掃描式光刻機

光源波長248nm

分辨率優(yōu)于0.18µm

主要用于4寸、6寸及8寸生產(chǎn)線

廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等




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