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有掩膜光刻機(jī)
VPG 800 / VPG 1400 有掩膜光刻機(jī)為光掩模（0.8至1.4 m）的高通量圖案化而定制。VPG1400是我們專為顯示行業(yè)設(shè)計(jì)的最大的系統(tǒng)。它是平板...
型號： VPG 800 /... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:56:11 對比

海德堡有掩膜
RIE等離子蝕刻系統(tǒng)
SENTECH Etchlab 200 RIE等離子蝕刻系統(tǒng)代表了一系列直接加載等離子體蝕刻系統(tǒng)，結(jié)合了RIE平行板電極設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)和直接負(fù)載的成本效益設(shè)計(jì)。
型號： SENTECH E... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:54:22 對比

RIE SENTECH 刻蝕
精密型烤膠機(jī)
HP6精密型烤膠機(jī)，全鋁機(jī)身，高精度控溫，獨(dú)立電路，真空吸附，數(shù)顯溫控，可選線性控溫，小巧便攜，適合手套箱使用。
型號： HP6 所在地：南京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:49:55 對比

烤膠機(jī)
低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)
SENTECH SI 500 C 低溫 ICP-RIE 等離子體蝕刻系統(tǒng)代表了電感耦合等離子體（ICP）處理的前沿技術(shù)，其最寬溫度范圍為 -150 ...
型號： SENTECH S... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:47:43 對比

低溫 SENTECH 刻蝕
程控烤膠機(jī)
LEBO science HP100-SE程控烤膠機(jī)，7寸觸屏PLC控，硬質(zhì)陽極氧化鋁面板，優(yōu)異性能，專業(yè)服務(wù)，實(shí)驗(yàn)理想之選。
型號： HP100-SE標(biāo)... 所在地：南京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:45:23 對比

烤膠機(jī)
投影掃描光刻機(jī)
SUSS MicroTec公司推出了其下一代投影掃描光刻機(jī)‐DSC300投影掃描光刻機(jī)。這種專有的掃描光刻平臺擁有三位數(shù)的產(chǎn)能，并達(dá)到解析度（ 2 μm）的分辨...
型號： DSC300 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:41:10 對比

光刻機(jī)SUSS
控溫型勻膠機(jī)
控溫型勻膠機(jī)，性能優(yōu)秀，專業(yè)服務(wù)，高品質(zhì)材料，安全設(shè)計(jì)，桌面實(shí)驗(yàn)理想選擇，為科學(xué)儀器領(lǐng)域的優(yōu)選產(chǎn)品。
型號： IC8000-S 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:39:31 對比

勻膠機(jī)
程控伺服勻膠機(jī)
AC200-S-PP勻膠機(jī)，伺服驅(qū)動，PLC控制，7寸觸屏，真空可調(diào)，支持加熱，工業(yè)級應(yīng)用，處理基片能力強(qiáng)。概述了AC200-S-PP程控伺服勻膠機(jī)的核心特性與...
型號： AC200-S-P... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:35:09 對比

勻膠機(jī)
程控伺服勻膠機(jī)
AC200-SE程控伺服勻膠機(jī)，高精度伺服驅(qū)動，PLC智能控制，7寸觸屏操作，耐溶劑材質(zhì)，適用于多種工業(yè)應(yīng)用。
型號： AC200-SE標(biāo)... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:27:39 對比

勻膠機(jī)
小巧型勻膠機(jī)
EZ4-S-PP小巧型勻膠機(jī)，小巧耐腐蝕，適用于手套箱內(nèi)，液晶顯示，程序可調(diào)，支持4寸底物，鋁合金/PP外殼可選。
型號： EZ4-S 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:26:01 對比

勻膠機(jī)
紫外臭氧清洗機(jī)
這款紫外臭氧清洗機(jī)，集成嵌入式控制系統(tǒng)，人性化設(shè)計(jì)，便捷高效，質(zhì)量有保障，專業(yè)服務(wù)，是科研與實(shí)驗(yàn)的理想伙伴。
型號： UC100-SE 所在地：南京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:19:40 對比

紫外臭氧清洗
等離子清洗機(jī)
LEBO science的PT500真空等離子清洗機(jī)，作為Plasma Treatment Equipment，具備以下顯著特點(diǎn)：設(shè)備小巧，操作便捷：采用一鍵式...
型號： PT500 所在地：南京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:11:22 對比

等離子清洗
通用晶圓鍵合平臺
通用晶圓鍵合平臺設(shè)計(jì)用于（混合）熱鍵合對準(zhǔn)的200mm和300mm晶圓。其高度模塊化的設(shè)計(jì)便于客戶以低擁有成本來實(shí)現(xiàn)極大的配置靈活性。提供多種配置，可滿足研...
型號： XBS300 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:09:28 對比

晶圓鍵合 SUSS XBS300
反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的...
型號： PlasmaPro... 所在地：英國參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:07:34 對比

RIE 牛津刻蝕大尺寸
晶圓鍵合機(jī)
新型的 XBC300 Gen2 D2W/W2W晶圓鍵合機(jī) 是將所有現(xiàn)有混合鍵合工藝集成到單一設(shè)備中的平臺： W2W、集體 D2W 和順序 D2W。這是蘇斯微技術(shù)...
型號： XBC300 Ge... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:05:45 對比

SUSS 晶圓鍵合
EvoVac 物理氣相沉積平臺
EvoVac PVD 平臺可以做任何您需要的事情。它有一個大腔室，可以配備您需要的任何源或工藝增強(qiáng)。EvoVac 物理氣相沉積平臺是我們具有可定制性的單腔室平臺...
型號：埃沃維克所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2025/6/6 7:58:49 對比

EvoVac 物理氣相沉積平臺 PVD Angstrom Engineering
高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
EC400真空熱蒸鍍膜儀是一款功能全面的高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，專為薄膜制備與研究設(shè)計(jì)。其核心組件包括真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得與測量系統(tǒng)、氣路系...
型號： EC400 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 7:56:35 對比

高真空鍍膜
反應(yīng)性離子刻蝕系統(tǒng)RIE
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 7:47:48 對比

牛津刻蝕 RIE
Amod物理氣相沉積平臺
Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平臺是一款物理氣相沉積系統(tǒng)，Amod物理氣相沉積平臺開始允許更大的腔室投射距離，并能夠適應(yīng)更多的...
型號：所在地：加拿大參考價：面議更新時間：2025/6/6 7:46:15 對比

PVD Amod AE 物理氣相沉積
掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)
SUSS MicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計(jì)了一款新型光刻平臺：MA100/150e Gen2掩模對準(zhǔn)光刻機(jī)?；衔锇雽?dǎo)體工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極...
型號： MA100/150... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 7:44:22 對比

半導(dǎo)體 SUSS 光刻

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