修整环 参考价：面议
修整环用于研磨抛光时对载样盘限位，以及对研磨盘平面进行修正，从而提高研磨盘的平面度?？捎糜赨NIPOL-802、UNIPOL-1202、UNIPOL-1502等...
1700℃箱式炉（36L）KSL-1700X-A4 参考价：面议
1700℃箱式炉（36L）KSL-1700X-A4采用侧开式炉门，以硅钼棒为加热元件，智能温度调节仪和B型双铂铑热电偶配套使用，对炉内温度进行测温调节和自动控制...
1700℃立式高温管式炉GSL-1700X-80VT 参考价：面议
1700℃立式高温管式炉GSL-1700X-80VT采用硅钼棒进行加热，Z高温度可以达到1700℃，专门针对于材料在真空或气氛?；せ肪诚碌纳战?。温控系统采用PI...
大口径管式真空气氛炉GSL-1100X 参考价：面议
大口径管式真空气氛炉GSL-1100X采用高纯石英管，外径规格有6″、8″、8.5″、11″可选，并配有不锈钢法兰，可进行抽真空或通入其他气氛气体操作，主要用于...
1100℃竖式马弗炉GSL-1100D11 参考价：面议
1100℃竖式马弗炉GSL-1100D11是大型的竖式马弗炉，其Z高温度为1100℃，精确的温控系统包含了30段升温和降温曲线设置，其控温精度达到± ...
HPM-12助力手动压力机 参考价：面议
HPM-12助力手动压力机主要用于材料压制，在压制过程中对物体施加的力逐渐增加，直到下限点达到Z大压力。
HPM-1.6恒力手动压力机 参考价：面议
HPM-1.6恒力手动压力机主要用于材料压制，在压制过程中对物体施加相等的压力。
1000℃卧式马弗炉 参考价：面议
1000℃卧式马弗炉炉衬使用真空成型高纯氧化铝聚轻材料，采用电阻丝为加热元件，且均匀地分布六面墙体，有效的保证了温场的均匀性。测温采用性能稳定、长寿命的“S"型...
1200℃开启式双温区管式炉OTF-1200X-II 参考价：面议
1200℃开启式双温区管式炉OTF-1200X-IIZ高温度可达到1200℃，并可通过调节两个独立的控温程序，使炉管内温度场形成一梯度。本机可用CVD方法来生长...
4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV 参考价：面议
4″高真空RTP炉OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速热处理管式炉，配有4″石英管及高真空系统（机械泵+分子泵）， 是专为半导体或太阳能电池基...
可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL 参考价：面议
可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL是一种快速热处理炉，采用红外灯加热和移动炉体快速冷却，可获得Z高升温速率为100°C/s 、降温速率...
1200℃ 单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL 参考价：面议
1200℃单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL底部安装一对滑轨，可手动进行炉体移动，Z高工作温度达1200°C，加热和冷却速率在真空或者...
双管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-4-C4LVS 参考价：面议
双管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的双管CVD系统，是专为在金属箔上生长薄膜而设计的，特别适用于新一代能源——柔性金属箔电极方面的研...
1100℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）GSL-1100X-III-D11-8 参考价：面议
1100℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）GSL-1100X-III-D11-8外炉管直径达到11″，内管直径8.5″，在加热管一端装有一对高真空不锈钢法兰，法兰...
可滑动RTP炉 OTF-1200X-4-RTP-SL 参考价：面议
可滑动RTP炉OTF-1200X-4-RTP-SL是一种快速热处理炉，采用红外灯加热和移动炉体快速冷却，可获得Z高升温速率为100°C/s 、降温速率...
1200℃单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL 参考价：面议
1200℃单管滑动快速加热冷却炉OTF-1200X-80SL底部安装一对滑轨，可手动进行炉体移动，Z高工作温度达1200°C，加热和冷却速率在真空或者...
1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV 参考价：面议
1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的，特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究...
1200℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）OTF-1200X-III-D5-4 参考价：面议
1200℃双管三温区管式炉（石墨烯生长）OTF-1200X-III-D5-4Z高工作温度可以达到1200℃，专门针对于用CVD方法在金属箔上生长薄膜物质，如石墨...
快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV 参考价：面议
快速升温CVD系统RTP-1000-F3LV是专为半导体基片、太阳能电池及其它样品（尺寸可达3″ ）的退火而设计，配有3路流量计和机械泵。本机采用 9KW的红外...
开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV 参考价：面议
开启式单温区低真空CVD系统OTF-1200X-F3LV是由开启式单温区管式炉、机械泵、三通道浮子混气系统组成，可为CVD或扩散实验提供1-3种的混合气体，真空...
高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV 参考价：面议
高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV是由单温区管式炉、两路质子混气系统和高真空机组组成，Z高工作温度可达1200℃，混气系统可以对两种气体进行精确...
1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统 OTF-1200X-4-C4LV 参考价：面议
1200℃双管滑动式四通道混气CVD系统OTF-1200X-4-C4LV是专门为在金属箔表面生长薄膜而设计的，特别是应用在新一代能源——柔性金属箔电极方面的研究...
高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV 参考价：面议
高真空快速CVD系统OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP炉、三通道混气系统和高真空机组组成，可进行半导体基片、太阳能电池及其它样品（尺寸可达3...
带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV 参考价：面议
带滑动法兰三温区CVD系统OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加热至1200℃，并通过调整三个温区而建立不同梯度的热场，可进行退火、扩散、在不同气氛...
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