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深圳市矢量科學儀器有限公司

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離子束沉積設備

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號NEXUS IBD-LDD

品牌Veeco

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地深圳市

更新時間:2025-06-06 10:35:09瀏覽次數(shù):472次

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
光掩模制造需要高水平的顆??刂?,同時沉積復雜的多層薄膜結(jié)構。Veeco 的 Nexus IBD-LDD 離子束沉積系統(tǒng)可以應對這一挑戰(zhàn)。自 1990 年代以來,Veeco 已成功服務于光掩模市場,多年的學習造就了當今先進的系統(tǒng)。IBD-LDD 系統(tǒng)是當今 EUV 掩模坯料上的鉬 (Mo) 和硅 (Si) 多層沉積和釕 (Ru) 封端層沉積的理想選擇,以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。

1.產(chǎn)品概述:

NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發(fā)的離子束沉積設備,VEECCO憑借25年來在離子束產(chǎn)品域建立導地位,實現(xiàn)當無缺陷的EUV掩??瞻?/span>

2.產(chǎn)品工藝:

光掩模制造需要高水平的顆??刂?,同時沉積復雜的多層薄膜結(jié)構。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統(tǒng)可以應對這一挑戰(zhàn)。自1990年代以來,Veeco已成功服務于光掩模市場,多年的學習造就了當先進的系統(tǒng)。IBD-LDD系統(tǒng)是當EUV掩模坯料上的鉬(Mo)和硅(Si)多層沉積和釕(Ru)封端層沉積的理想選擇,以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。

3.產(chǎn)品優(yōu)勢:

經(jīng)過生產(chǎn)驗證的平臺

低的缺陷密度

優(yōu)異的均勻性和可重復性

高反射率

在同一腔室中沉積多種材料

可以集成到其他過程模塊中,集成到集群工具中


濺射系統(tǒng)

iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng),采用托盤形式,可兼容 2/4/6

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