1.產(chǎn)品概述:
NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發(fā)的離子束沉積設備,VEECCO憑借25年來在離子束產(chǎn)品域建立導地位,實現(xiàn)當下無缺陷的EUV掩??瞻?/span>。
2.產(chǎn)品工藝:
光掩模制造需要高水平的顆??刂?,同時沉積復雜的多層薄膜結(jié)構。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統(tǒng)可以應對這一挑戰(zhàn)。自1990年代以來,Veeco已成功服務于光掩模市場,多年的學習造就了當先進的系統(tǒng)。IBD-LDD系統(tǒng)是當EUV掩模坯料上的鉬(Mo)和硅(Si)多層沉積和釕(Ru)封端層沉積的理想選擇,以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。
3.產(chǎn)品優(yōu)勢:
經(jīng)過生產(chǎn)驗證的平臺
低的缺陷密度
優(yōu)異的均勻性和可重復性
高反射率
在同一腔室中沉積多種材料
可以集成到其他過程模塊中,集成到集群工具中