原子層沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
原子層沉積鍍膜系統(tǒng)1.ALD （傳統(tǒng)的熱原子層沉積）；2.PEALD （等離子增強(qiáng)原子層沉積）；3.Powder ALD （粉末樣品的原子層沉積）；
無掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī) 參考價(jià)：面議
無掩膜曝光機(jī)-光刻機(jī)美國IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設(shè)備生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)和多項(xiàng)無掩模曝光技術(shù)，已成為無掩...
勻膠機(jī)、旋涂儀（德國產(chǎn)、高性能） 參考價(jià)：面議
勻膠機(jī)、旋涂儀（德國產(chǎn)、高性能）SPIN150i單片勻膠機(jī)/旋涂儀具有廣泛應(yīng)用，包括甩干，沖洗，清潔，涂膠。臺(tái)式設(shè)計(jì)，無縫全塑料材質(zhì)， 有天然聚丙烯（NPP）和...
顯影機(jī)-勻膠機(jī) 參考價(jià)：面議
顯影機(jī)-勻膠機(jī)顯影機(jī) /濕法刻蝕機(jī)德國品質(zhì)（配有防污染內(nèi)襯，標(biāo)配兩個(gè)大小吸盤，性能優(yōu)于美國同類品牌）高精度，高可靠性，耐腐蝕，來源德國，多程序控制。
半球電子能量分析器-真空組件 參考價(jià)：面議
半球電子能量分析器-真空組件半球電子能量分析器半徑: 120mm反轉(zhuǎn)角度: 180 deg.
皮可安培計(jì)（USB接口）-材料表征 參考價(jià)：面議
皮可安培計(jì)（USB接口）-材料表征技術(shù)參數(shù)：接口輸入: BNC; 模擬輸出偏壓選項(xiàng)：無偏壓/ 內(nèi)置偏壓 （± 90 V DC）/ 外置偏壓 （BNC）
磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件 參考價(jià)：面議
磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件磁控濺射源/靶槍（1英寸/2英寸/3英寸）我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩...
真空腔體水氣解吸附組件2 參考價(jià)：面議
真空腔體水氣解吸附組件2ZCUVE代表了水蒸氣解吸技術(shù)的新進(jìn)展。*的設(shè)計(jì)可從2.75“擴(kuò)展到8"法蘭尺寸，紫外線功率因數(shù)w按比例增加
射頻離子/原子源（可轉(zhuǎn)換）-真空組件 參考價(jià)：面議
射頻離子/原子源（可轉(zhuǎn)換）-真空組件射頻離子源：用于離子束沉積，離子束輔助沉積，MEMS射頻原子源：用于合成氧化物，氮化物，氫原子清洗
俄歇電子能譜儀（在線表面分析）-材料表征 參考價(jià)：面議
俄歇電子能譜儀（在線表面分析）-材料表征The microCMA is a compact （2.75“ CF mount） cylindrical mirro...
低能電子散射/俄歇譜儀 參考價(jià)：面議
低能電子散射/俄歇譜儀范圍內(nèi)的電子有很大的散射截面，因此背散射電子中絕大部分是被表面或近表面的原子散射回來的，這就使低能電子衍射（LEED）成為研究表面結(jié)構(gòu)的一...
反向光電子發(fā)射槍及檢測器 參考價(jià)：面議
反向光電子發(fā)射槍及檢測器IPES is used to study the empty electronic states of solids. The sam...
X射線光源-真空組件 參考價(jià)：面議
X射線光源-真空組件X射線光源（可用于X射線電子能譜） 雙陽極X射線光源多種陽極材料具有差分抽氣或者從安裝口抽氣70mm O.D. CF安裝法蘭
濺射離子槍，等離子體發(fā)生源 參考價(jià)：面議
濺射離子槍，等離子體發(fā)生源濺射清洗/表面科學(xué)中樣品表面處理, MBE and HV 濺射過程離子輔助沉積離子束濺射鍍膜反應(yīng)離子刻蝕
四袋電子束蒸發(fā)器 參考價(jià)：面議
四袋電子束蒸發(fā)器Beam Evaporator is an UHV evaporator for small and medium quantities of ...
電子槍（電子損失譜，俄歇電子能譜可用） 參考價(jià)：面議
電子槍（電子損失譜，俄歇電子能譜可用）¨ Low Energy Electron Gun designed for Electron Loss Spe...
臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置：1，研發(fā)級(jí)R&D鍍膜設(shè)備，性能優(yōu)異2，具備所有研發(fā)級(jí)別的鍍膜要求3，高效的沉積速率，鍍膜時(shí)間快4， 實(shí)驗(yàn)室中培訓(xùn)的...
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)（MOCVD） 參考價(jià)：面議
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)（MOCVD）其反應(yīng)器的設(shè)計(jì)可以根據(jù)工藝的需要很容易提升到滿足大直徑晶片生產(chǎn)的需要。我們也能為客戶設(shè)計(jì)以滿足客戶特殊工藝和應(yīng)用的需要...
超高真空多功能薄膜制備系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
超高真空多功能薄膜制備系統(tǒng)此系統(tǒng)可以配置多種沉積方式（預(yù)留各種功能接口）,高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研. 高真空條件沉積模式（使用機(jī)械泵+分子泵，或冷凝...
有機(jī)分子束沉積鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
有機(jī)分子束沉積鍍膜系統(tǒng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Et...
在線量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
在線量產(chǎn)型磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 高轉(zhuǎn)換效率大容量吸收，電池可靠性長達(dá)10年抗輻射
離子束拋光系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
離子束拋光系統(tǒng)磁隧道結(jié)介電界面涂層Rugate FiltersHigh-k 材料形狀記憶合金光電材料超導(dǎo)材料單一結(jié)晶GaN
離子束刻蝕設(shè)備 參考價(jià)：面議
離子束刻蝕設(shè)備離子拋光離子清洗等離子體灰化等離子體氧化、氮化表面改性 反應(yīng)刻蝕 生物醫(yī)藥傳感器
PECVD+RIE等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備 參考價(jià)：面議
PECVD+RIE等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積設(shè)備該系統(tǒng)中的PECVD可以沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。標(biāo)準(zhǔn)配置射頻（...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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