目錄:科睿設(shè)備有限公司>>鍍膜設(shè)備>> 臺式磁控濺射鍍膜儀
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,電氣,綜合 |
|---|
臺式磁控濺射鍍膜儀
該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置：
1，研發(fā)級R&D鍍膜設(shè)備，性能優(yōu)異
2，具備所有研發(fā)級別的鍍膜要求
3，高效的沉積速率，鍍膜時間快
4， 實驗室中培訓(xùn)的最工具
臺式磁控濺射鍍膜儀
主要的特點和先進的功能：
1， 臺式，小型，快速
2，全自動化程序控制
3，單靶或多靶聯(lián)合濺射鍍膜，多路氣體管路
4，共聚焦設(shè)計，靶槍尺寸：2英寸，3英寸，4英寸，襯底可做到200mm，旋轉(zhuǎn)1-20RPM，以及Load-lock配置
5，配置干泵+分子泵，可達高真空，適用高品質(zhì)薄膜沉積。
6， 可做直流濺射，射頻濺射，100W射頻偏壓（用于襯底表面清洗）
性能價格比高?。?/span>
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
8
化工儀器網(wǎng)