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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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更新時(shí)間：2025-07-02 15:16:54瀏覽次數(shù)：159
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mr-NIL212FC 是 micro resist technology 公司專為 軟紫外納米壓?。?/span>Soft UV-NIL） 開發(fā)的液態(tài)光固化膠，結(jié)合 快速固化（FC）技術(shù) 與Excellence的刻蝕穩(wěn)定性，為高難度基材（如 SiO? 等氧化物）的圖案轉(zhuǎn)移提供了一站式解決方案。其核心亮點(diǎn)包括：
l閃電固化：即使面對(duì) 200 nm 以下微納結(jié)構(gòu)，也能在低強(qiáng)度紫外光源（320–420 nm）下快速完成固化，顯著提升生產(chǎn)效率。
lSuper strong刻蝕耐受性：相比常規(guī)型號(hào) mr-NIL210，對(duì) O? 等離子體及鹵素基刻蝕的穩(wěn)定性提升 30% 以上，是硬質(zhì)基材圖案轉(zhuǎn)移的理想掩模。
l廣譜兼容性：Perfect適配 PDMS 類彈性印章（推薦 Shin-Etsu KER-4690），同時(shí)支持 PFPE、COC 等軟質(zhì)印章，以及石英、鎳等硬質(zhì)印章（需搭配防粘層 F13-TCS）。
? 即用型配方：開瓶即用，通過(guò) 3000 rpm 旋涂 30 秒 即可獲得 100/200/300 nm 精準(zhǔn)膜厚（公差±15 nm），預(yù)烘烤僅需 60°C/3 分鐘，大幅簡(jiǎn)化流程。
? 工藝靈活性：
l支持 紫外汞燈 或 365–405 nm LED 光源，推薦曝光劑量 >1 J/cm2。
l可選 后烘烤（100°C/1 分鐘） 進(jìn)一步提升刻蝕性能。
? 工業(yè)級(jí)可靠性：與 OpTool GMN 系列印章兼容，適合量產(chǎn)環(huán)境（HVM），壓印壓力 <100 mbar，缺陷率極低。
l半導(dǎo)體先進(jìn)制程：高深寬比納米線、光子晶體的批量制造。
l光學(xué)器件：AR/VR 衍射光柵、微透鏡陣列的高保真圖案化。
lMEMS/傳感器：復(fù)雜三維結(jié)構(gòu)的低成本快速原型開發(fā)。
特性 | mr-NIL212FC-100nm | mr-NIL212FC-200nm | mr-NIL212FC-300nm |
動(dòng)態(tài)粘度（mPa·s） | 1.5 ± 0.2 | 1.8 ± 0.2 | 2.2 ± 0.2 |
折射率（589 nm） | 1.409 | 1.416 | 1.442 |
密度（g/cm3） | 0.976 | 0.990 | 0.999 |
l基材適配：硅、藍(lán)寶石、玻璃等基材均可直接使用，推薦搭配底涂劑 mr-APS1 或 Omnicoat 以增強(qiáng)附著力。
l后處理簡(jiǎn)便：殘余層可通過(guò) O? 等離子體 快速清除，剝離選用 熱硫酸（Piranha） 或超聲輔助溶劑（PGMEA）。
l安全環(huán)保：無(wú)鹵素配方，存儲(chǔ)條件寬松（15–25°C），保質(zhì)期 6 個(gè)月。
