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邁可諾技術有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 參考價 | 面議 |
更新時間：2025-07-02 15:05:02瀏覽次數(shù)：188
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產(chǎn)品亮點
l自粘附特性：無需額外底涂劑（Primer），直接適用于硅、藍寶石等多種基材，簡化工藝流程，降低成本。
l高兼容性：專為氣密性硬質(zhì)印章（如石英、玻璃、OrmoStamp®）優(yōu)化，確保圖案轉(zhuǎn)移的高保真度。
l快速光固化：在 320–420 nm 紫外光下高效固化，氧氣干擾極低，適合工業(yè)化量產(chǎn)環(huán)境。
l精準膜厚控制：提供 100 nm、200 nm、300 nm 三種標準厚度，支持定制稀釋（推薦稀釋劑 mr-T 1078）。
為什么選擇 mr-NIL200？
? Excellence的刻蝕掩模性能：純有機配方，無硅殘留，與反應離子刻蝕（RIE）工藝Perfection匹配，實現(xiàn)高分辨率圖案轉(zhuǎn)移。
? 工藝靈活性：適配主流納米壓印設備（如 EV Group、SUSS MicroTec），支持低壓力（<100 mbar）壓印，減少缺陷風險。
? 即用型配方：開瓶即用，旋涂后 60°C 預烘 3 分鐘 即可進入壓印步驟，大幅提升生產(chǎn)效率。
典型應用場景
l半導體器件：納米線、光子晶體結(jié)構(gòu)的批量制造。
l光學元件：AR/VR 衍射光柵、微透鏡陣列的圖案化。
l生物傳感器：高精度微流控芯片的快速 prototyping。
技術參數(shù)速覽
特性 | mr-NIL200-100nm | mr-NIL200-200nm | mr-NIL200-300nm |
膜厚（nm） | 100 ± 15 | 200 ± 20 | 300 ± 25 |
動態(tài)粘度（mPa·s） | 1.3 ± 0.2 | 1.4 ± 0.2 | 1.6 ± 0.2 |
折射率（589 nm） | 1.435 | 1.438 | 1.441 |
使用須知
l存儲條件：需冷藏保存（4°C），使用前恢復至室溫，避免冷凝污染。
l安全環(huán)保：無鹵素溶劑，廢棄按有機溶劑處理，符合環(huán)保標準。
l后處理：殘余層可通過 O? 等離子體 或 熱硫酸（Piranha） Thorough去除。
