连续式磁控溅射镀膜设备主要用于在平板玻璃、压克力、PC、PET等表面镀制高质量、高性能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射（AR）、增反射膜，LOW-E等膜层。本公司可按用户要求提供设计，提供全套镀膜设备，负责工艺，按交“钥匙”工程服务。

设备特点：
1.设备采用真空磁控溅射技术，孪生阴极，中频溅射技术，并配以*的控制系统 。
2.生产过程全部自动，连续进行。被镀工件加热温度高可达350℃，温度分区控制可调。
3.真空室材料采用SUS304，真空室内壁进行抛光处理，外壁采用抛光后喷漆处理。
4.真空室之间采用独立门阀隔开，我们设计的是插板阀，可以有效隔断，稳定工艺气体。传动采用磁导向，保障传动的稳定性。整条生产线的各段速度采用变频调速电机驱动，运行速度可调节。
5.电气控制系统：触摸屏与PLC自动控制，人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制。

1．极限真空：7x10-4Pa.                    
2．生产周期40~120秒/架
3．基本架尺寸：859*1500mm (可以根据要求定做) 
4．膜层均匀性：±2%
5．膜层稳定性：达到标准

玻璃、导电膜
连续式磁控溅射镀膜设备广泛地用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子ITO导电膜玻璃、光电子和各种光学领域
适用于柔性电致变色器件、柔性薄膜太阳能电池、柔性EL发光器件的制备和生产