PECVD设备是一种利用等离子体技术来促进化学反应的设备，PECVD设备的工作原理基于化学气相沉 积（CVD），但通过引入等离子体能量，可以提高 反应速率、降低反应温度、改变薄膜成分和结 构 ，以 及 增 强 薄 膜 的 附 着 力 和 致 密 性 。在 PECVD过程中，使用低气压下的低温等离子体 在沉积室的阴极触发辉光放电，或通过其他加 热装置将样品加热至设定温度，并引入特定量 的工艺气体。这些气体在等离子体的作用下进 行多种化学反应，最终在样品表面生成一层固态薄膜。满足不同领域的研究需求。