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当前位置：上海滨润环保科技有限公司>>超纯水设备>> 福建1 吨 / 小时电子厂超纯水设备
| 应用领域 | 环保,食品/农产品,化工,电子/电池,制药/生物制药 |
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多介质过滤单元：φ500mm 304 不锈钢滤罐（内壁电解抛光 Ra≤1.6μm），内装 600mm 厚级配滤料（下层 3-5mm 石英砂 + 上层 0.8-1.2mm 无烟煤），运行流速 12m/h，通过梯度过滤去除悬浮物至浊度≤0.1NTU，SDI（污染指数）控制在≤3，为后续 RO 系统提供更严格的前置?；?。自动反冲洗采用 “水反冲 + 气擦洗 + 水正冲" 三段式程序（反洗强度 12L/(m2?s)），确保滤料再生效率≥98%，减少反洗残留污染。
活性炭吸附单元：φ400mm 304 不锈钢滤罐，填充碘值≥1000mg/g 的椰壳活性炭（粒径 1.0-2.0mm），运行流速 10m/h，特异性吸附余氯（≤0.01mg/L）、TOC（去除率≥80%）及重金属（如 Cu2?、Ni2?≤0.01ppm），避免氯对 RO 膜的氧化及重金属对电子元件的电化学腐蚀。采用单罐 + 备用滤芯组合设计，活性炭更换周期 4-6 个月，通过在线 TOC 监测仪（检测限 1ppb）联动提示更换，确保有机物去除效果稳定。
软化处理单元：φ400mm 304 不锈钢离子交换柱，装填核级 001×7MB 阳离子交换树脂（交换量≥1.3eq/L），将原水硬度（以 CaCO?计）降至≤0.1ppm，防止 RO 膜结垢与后续管道产生钙镁沉积。采用流量 - 硬度 - 时间三参数控制再生（产水达 30 吨或出水硬度＞0.05ppm 时启动），再生液为 10% 电子级 NaCl 溶液，避免工业级盐中的杂质污染树脂。
保安过滤：30 英寸精密过滤器（304 不锈钢外壳），内置 0.45μm 聚醚砜（PES）折叠滤芯（3 支并联），对≥0.45μm 颗粒截留率≥99.99%，作为 RO 膜的最后一道防护，滤芯每两周更换一次，通过在线微粒计数器（检测范围 0.1-5μm）实时监控过滤效果，确保进入 RO 系统的微粒数≤100 个 /ml。
一级 RO 单元：采用 3 支抗污染型 RO 膜元件（3 支串联，型号 SW30HR-4040），单支膜面积 400ft2，设计脱盐率≥99.5%。运行压力 1.6±0.1MPa，水温控制在 25±1℃（配备恒温换热器），产水量 1.8m3/h，回收率 60%。浓水（约 1.2m3/h）经压力回收装置（效率≥90%）回收能量后排放，系统能耗降低 15%。
二级 RO 单元：配置 2 支电子级低压高脱盐膜（2 支串联），脱盐率≥99.8%，总脱盐率达 99.995%，产水量 1.2 吨 / 小时，回收率 80%。二级 RO 产水电导率≤0.5μS/cm，通过在线电导率仪（精度 ±0.05μS/cm）与温度补偿系统联动，确保数据准确性，超标时自动启动循环净化程序（循环路径避开产水水箱，避免污染）。
智能清洗系统：集成 300L PP 清洗箱（内壁光滑）与卫生级清洗泵（316L 叶轮），支持酸洗（0.5% 柠檬酸 + 0.1% 还原剂，pH3-4）与碱洗（0.1% NaOH+0.05% 表面活性剂，pH10-11），清洗程序针对电子厂水源中常见的有机物污染优化，清洗周期延长至 4-6 个月，清洗后需检测 TOC≤5ppb 方可恢复运行。
抛光混床：φ200mm 316L 不锈钢柱，装填 1:1 比例的电子级核子级树脂（阳树脂 IRN160，阴树脂 IRN178），进一步去除残余离子，使产水电阻率≥18.2MΩ?cm@25℃，硅含量≤0.01ppm，满足芯片级清洗需求?；齑膊捎锰迥谠偕绞?，再生周期根据电阻率变化自动触发（≤15MΩ?cm 时），再生后需冲洗至电阻率稳定≥18.2MΩ?cm 方可投入使用。
终端过滤系统：
0.1μm 折叠式聚四氟乙烯（PTFE）过滤器（316L 外壳），对≥0.1μm 颗粒截留率≥99.999%，确保产水微粒（≥0.1μm）≤1 个 /ml。
超滤膜组件（可选配，截留分子量 1000Da），去除水中的胶体与大分子有机物，TOC 进一步降至≤10ppb，适合光刻胶配制等高精度场景。
紫外线氧化：配备双波长紫外灯（185nm+254nm，功率 60W），剂量 30mJ/cm2，既杀灭微生物（杀菌率≥99.99%），又氧化分解残余有机物（TOC 去除率≥30%），避免生物膜形成与有机物沉积污染电子元件。
材质低污染性：与水接触部件 100% 采用 316L 不锈钢（电解抛光 Ra≤0.8μm）或 PTFE、PP 等低溶出材料，所有材料通过 SGS 溶出物测试（金属离子≤0.001ppm）。
自动化微粒监控：采用激光微粒计数器（检测范围 0.1-10μm），每小时自动记录微粒数，超标时立即启动终端过滤器更换提示，并暂停向关键用水点供水。
防交叉污染设计：产水管道采用 316L 不锈钢（内壁电解抛光），焊接点经内窥镜检测（Ra≤0.8μm），盲管长度≤1D（D 为管径），水流速维持 1.0-1.5m/s（湍流状态），避免微生物滋生与微粒沉积。
洁净室兼容设计：
设备外表面采用 304 不锈钢（Ra≤1.6μm），圆角过渡（半径≥10mm），无卫生死角，可直接用异丙醇擦拭消毒，符合 ISO 8 级洁净室要求。
运行噪音≤60dB (A)（距离设备 1 米处），配备静音型水泵与隔音罩，避免干扰电子厂洁净室的声学环境。
灵活供水模式：
终端配备变频恒压供水系统（压力 0.3-0.5MPa 可调），支持 3-5 个用水点同时供水（如清洗槽、显影机、镀膜机），各用水点设独立阀门与在线电阻率监测仪，确保局部用水波动不影响整体水质。
配备 500L 无菌储水箱（316L 不锈钢，内壁电解抛光），水箱内安装紫外线杀菌灯（254nm，每小时运行 15 分钟）与搅拌装置，防止水质静置劣化，满足电子厂间歇式生产的用水需求。
易维护与快速恢复：
关键部件（如 RO 膜、EDI 模块）采用快装式连接，更换时间≤30 分钟，减少设备停机对生产的影响。
系统预设 “快速启动" 模式，停机 4 小时内重启时，30 分钟即可产出合格超纯水，较常规启动时间缩短 50%。
数据追溯与合规性：
采用西门子 S7-1200 PLC 控制系统，10 英寸触摸屏实时显示水质参数、设备状态，支持数据存储≥1 年（符合电子行业追溯要求），可通过 U 盘导出或联网上传至工厂 MES 系统。
自动生成每日水质报告（含电阻率、TOC、微粒数趋势图），满足 ISO 9001 与 IATF 16949 等体系对过程控制的要求。
PCB 精细制造：用于线路板内层蚀刻、阻焊膜显影，低离子特性避免线路短路，某 PCB 厂使用后，细线（≤50μm）合格率提升 12%。
半导体封装测试：为芯片引线键合、晶圆减薄等环节提供清洗用水，低微粒特性减少芯片表面划伤，某封装厂使用后，测试良率提升 8%。
电子元件清洗：用于连接器、传感器等精密元件的超声波清洗，高纯度水质确保元件接触电阻稳定，某电子元件厂使用后，产品可靠性测试通过率提升 15%。
光刻胶配制：为光刻胶稀释提供用水，低 TOC（≤10ppb）特性避免有机物干扰光刻图案形成，某光刻材料厂使用后，图案精度偏差控制在 ±0.1μm 以内。
水质精度高：多重纯化工艺确保超纯水的低离子、低微粒、低有机物特性，满足电子元件对水质的要求。
运行稳定：针对电子厂水源波动与间歇生产特点，设备水质波动≤5%，减少因水质问题导致的产品报废。
适配性强：紧凑设计（占地面积约 3m2）与洁净室兼容特性，可直接安装于电子厂车间内，缩短供水管路，降低二次污染风险。
成本可控：单吨水运行成本（含耗材、电费）约 8 元，较进口设备降低 40%，适合中小型电子厂的成本预算。
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