目录:上海波铭科学仪器有限公司>>光谱系统>>显微缺陷膜厚>> 分光干涉式晶圆膜厚仪 SF-3
即时检测
WAFER基板于研磨制程中的膜厚
玻璃基板(强酸环境中)于减薄制程中的厚度变化
| SF-3 | |
|---|---|
| 膜厚测量范围 | 0.1 μm ~ 1600 μm※1 |
| 膜厚精度 | ±0.1% 以下 |
| 重复精度 | 0.001% 以下 |
| 测量时间 | 10msec 以下 |
| 测量光源 | 半导体光源 |
| 测量口径 | Φ27μm※2 |
| WD | 3 mm ~ 200 mm |
| 测量时间 | 10msec 以下 |
※1 随光谱仪种类不同,厚度测量范围不同
※2 最小Φ6μm
上海波铭科学仪器有限公司主要提供光谱光电集成系统、晶萃光学机械和光学平台、激光器、Edmund 光学元件、Newport 产品、滨松光电探测器、卓立汉光荧光拉曼光谱仪、是德 Keysight 电学测试系统、大塚 Otsuka 膜厚仪、鑫图科研级相机、Semilab 半导体测试设备及高低温探针台系统。经过多年的发展，上海波铭科学仪器有限公司在市场上已取得了一定的地位。我们的产品和服务在行业内具有较高的知zhi名度和美誉度，客户遍布全国。我们将继续努力，不断提升市场地位和影响力。
5
化工仪器网