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Pluto-MD等离子去胶机产品介绍 ：去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光，紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理。光刻胶...

PLUTO-ME定制款等离子处理机产品简介：作为在实验室中使用的等离子体研发平台，我们努力尝试为客户解决一切可能在实验活动中遇到的需求?！耙蛭亲约貉蟹⒌?，所以...

Pluto-MC 真空等离子体涂覆（镀膜）设备 利用等离子体改性时，将试样置于特定的离子处理装置中，通过高能态的等离子轰击试样的表面，将能量传递给试样表层的分子...

Pluto-Atmos 常压等离子涂覆镀膜系统 是一种基于频率为13.56MHz（射频）等离子体技术的新型表面涂覆设备。是一种强大的新涂层工艺，利用大气压等离子...

PLUTO-160 等离子清洗机/表面处理系统 是一款为工业级客户和研发型客户使用需求设计的宽泛使用等离子表面处理设备，适用于等离子清洗，活化以及刻蚀等多种应用...

Pluto-30等离子清洗机 是专为研发而设计的全功能等离子体系统，13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。

无掩模光刻机 美国AMP（Advanced Micro Patterning, LLC）公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光技术，已成为无掩模紫外光刻...

匀胶显影机 适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压 （水）辊、涂胶槽等部...

手动/半自动曝光机 光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；

等离子刻蚀机 提供一系列的解决方案来满足客户的生产和开发要求。通过一系列的技术的开发，SPTS能为客户提供一系列的*的工艺，比如功率MOSFET和200mm和3...

IPG激光划片机 能适应单晶硅、多晶硅、非晶硅电池划片和硅、锗、砷化镓半导体材料的划片和切割。比如厚片（如AP公司0.7mm单晶硅多晶硅；1.2mm非晶硅带等）...

CMP研磨抛光系统 ，该机型是PM5型的升级版。能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理，整个过程全封闭控制，并内置自清洗功能，提升对操作人员的安全?；?；全部采...

ALD原子层沉积系统 存储电容器绝缘层-铜连线间的高纵横比扩散势垒区有机发光二极管和聚合物的无针孔钝化层钝化晶体硅太阳能电池

ADT机械划片机 具有四种不同的机型可以选择，每个机型分别对具体的应用范围进行了优化，7100系列涵盖了广阔的应用范围，可以提供低廉的成本合理并同时提供*的切割...

芯片推拉力剪切力测试仪 是一种多功能焊接强度测试仪，可执行芯片推拉力和剪切力测试应用。

原子力显微镜 使用调频模式，提高了信号的灵敏度，是一款可以在大气环境下获得与真空环境中同样高分辨率表面观察图像的产品，无论样品种类（薄膜、晶体、半导体、有机材料...

芯片推拉力剪切力测试仪 是一种多功能焊接强度测试仪，可执行芯片推拉力和剪切力测试应用。

芯片拉力剪切力测试仪 拥有多项功能，应用操作中可执行芯片器件推拉力和剪切力的测试操作。DAGE焊接强度测试仪和DAGE X-ray产品系列，可以用于破坏性和非破...

双面量测探针台（上下点针方式） 龙门式移动平台，与显微镜精微调装置配合，设计结构稳定，可操控范围广，放置样品以及点针操作方便

扫描电镜SEM 公司新推出的一款机型小巧性能优异的钨灯丝电镜，拥有大束流和低球差的物镜和聚光镜设计，配备了高分辨率二次电子探头及高灵敏度五分割背散射探头，具有越...