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匀胶显影系统

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更新时间：2025-06-06 21:00:06

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匀胶显影系统厂家提供详细的应用范围,特点信息。

　　匀胶显影系统的设备适应于半导体、化工材料、硅片、晶片、基片、导电玻璃等工艺，制版的表面显影。一般匀胶显影机由动力系统、显影液槽及喷液管、水洗槽、挤压(水)辊、涂胶槽等部分组成。

　　匀胶显影系统的设备具有以下特点：

　　1. 电机励磁和电枢分开供电。励磁用12伏直流稳压电源供电，电枢用运放控制IRF830调速，它比可控硅调速*，故其转速在500—8000转/分范围内非常稳定。

　　2. 本匀胶机有两档转速。在启动之后，先以低速运转，然后自动变到高速运转。两档速度及运行时间分别可调。

　　3. 的匀胶机采用光电检测，数字电路测速，对电机的转速检测快速准确。电机稳速方面采用了光电隔离的精密负反馈电路，使整机在高达8000RPM以上转速时仍十分稳定，有力的保证了匀胶质量。

　　4. “吸片”采用电子开关控制电磁阀完成气路通断，这样适合流水线工艺，一个气泵可同时带几台匀胶机工作，提高效率。

　　5. 匀胶机定时采用可调定时电路控制，面板上调节Timer旋钮即可改变匀胶时间。

　　6. 在安装结构上，采取了减震措施，因而匀胶机在运转时噪音很低。

　　7. 电磁阀与电机运行有连锁功能，电磁阀未动作不能启动电机运行，本次匀胶电机未停不能进行下次匀胶，若运行中误按“CONTROL”键也不能停止吸气，即不会产生跑片。

　　的设备是一种既可用于精密匀胶操作，又可用于半导体显影和清洗的台面式设备，它可以实现价值百万美元设备（track）的上才可能达到稳定性和均匀性。

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