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湿法刻蚀系统

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更新时间：2025-06-06 21:00:06

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Etching/等离子蚀刻系统: 等离子刻蚀ICP

Thin Film薄膜沉积系统: 高密度化学气相沉积系统 PECVD沉积

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Ethcing/等离子蚀刻系统: 等离子刻蚀ICP

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紫外掩膜对准曝光系统: 紫外掩膜对准曝光系统紫外掩膜曝光机

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湿法刻蚀系统厂家提供详细的构造,特点信息。

　　湿法刻蚀系统的设备是由全白色聚丙烯构造，可内置任何旋涂机及显影机，排放简便的入氮口和DI喷头，如果需要单工的系统，可选择WS-1000M湿法刻蚀设备，WS-1000系列旋转处理湿法设备可以被配置成测试?？楣乖?，安装简便，易于拆卸，更便于操作者控制。

　　湿法刻蚀系统的设备特点：

　　● 全PP材质构造

　　● 可集成Laurell匀胶旋涂系统

　　● 有排孔的湿站操作台 (易清洁)

　　● 特殊设计的湿站压力系统Wet plenum

　　● 带流量计的排液管道

　　● 各类组件的隔离设计（散热原件，泵浦和压力容器等）

　　的设备材料选择：可以根据应用选择更高级的材料；

　　● WS-1000-CP5 符合SEMI S93标准应用在消防安全和洁净空间等领域。CP5符合UL94 V-O 火灾分类标准。它具有优良的平衡的物理性能，耐化学药品性和耐火性。

　　● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合zui严格的FMRC 4910测试标准，满足多方面条件下的难燃性，自熄特点和*燃烧。这种*进的材料也达到或超过产生低烟和zui小毒副产品的检测标准。

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