湖北專業(yè)定制2噸工業(yè)超純水設(shè)備廠家工藝設(shè)計(jì)

工業(yè)超純水設(shè)備需滿足電子、半導(dǎo)體、光伏、電鍍等行業(yè)的嚴(yán)苛水質(zhì)要求（如電阻率≥18.2MΩ·cm），以下為典型工藝流程及關(guān)鍵特點(diǎn)：

一、工藝流程

1. 預(yù)處理階段

• 多介質(zhì)過(guò)濾器：去除懸浮物、膠體、鐵銹等大顆粒雜質(zhì)（過(guò)濾精度5-10μm）。

• 活性炭過(guò)濾器：吸附余氯、有機(jī)物、異味，降低TOC（總有機(jī)碳）。

• 軟化器（可選）：通過(guò)離子交換樹(shù)脂降低鈣鎂離子濃度，防止反滲透膜結(jié)垢。

• 精密過(guò)濾器：5μm濾芯攔截微小顆粒，保護(hù)反滲透膜。

• 可選：除鐵錳過(guò)濾器（若原水含鐵錳較高）。

2. 核心凈化階段

• 高壓泵加壓至1.0-1.2MPa，水通過(guò)反滲透膜（如陶氏BW30-400），脫鹽率≥99%，截留微生物、溶解性鹽類。

• 中間水箱：儲(chǔ)存RO產(chǎn)水，配備液位控制及氮封裝置（防止CO?污染）。

• 一級(jí)反滲透（RO）：

• 二級(jí)反滲透（可選）：進(jìn)一步提升水質(zhì)，適用于原水水質(zhì)較差或高標(biāo)準(zhǔn)場(chǎng)景。

3. 深度除鹽與拋光

• 采用陰陽(yáng)樹(shù)脂混合床，進(jìn)一步去除痕量離子，確保出水電阻率≥18.2MΩ·cm。

• 在電場(chǎng)作用下，淡室中的離子交換樹(shù)脂再生，持續(xù)去除RO產(chǎn)水中的殘留離子（電阻率提升至15-18MΩ·cm）。

• 電去離子（EDI）：

• 拋光混床（可選）：

4. 后處理與滅菌

• 紫外線殺菌（UV）：254nm波長(zhǎng)紫外線殺滅99%以上細(xì)菌和病毒。

• 終端精密過(guò)濾：0.22μm或0.1μm微孔濾膜，攔截微粒及微生物尸體。

• 臭氧消毒（可選）：對(duì)儲(chǔ)水箱進(jìn)行周期性臭氧殺菌，防止微生物滋生。

5. 儲(chǔ)存與分配系統(tǒng)

• 不銹鋼無(wú)菌水箱：316L材質(zhì)，配備氮封、呼吸器，避免空氣微生物污染。

• 循環(huán)殺菌系統(tǒng)：通過(guò)巴氏消毒或紫外線循環(huán)，保持儲(chǔ)水水質(zhì)穩(wěn)定。

二、設(shè)備特點(diǎn)

1. 超高水質(zhì)

• 出水電阻率≥18.2MΩ·cm，滿足半導(dǎo)體、電子級(jí)超純水標(biāo)準(zhǔn)（如SEMI C18、ASTM D5127）。

• 可選配TOC去除裝置（如活性炭+UV聯(lián)合工藝），控制總有機(jī)碳≤5ppb。

2. 高效節(jié)能

• 反滲透+EDI組合工藝，減少化學(xué)再生消耗（如酸堿用量降低90%）。

• 回收率可達(dá)75%-90%（根據(jù)原水水質(zhì)調(diào)整），節(jié)約水資源。

3. 自動(dòng)化控制

• PLC+觸摸屏集成控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)電導(dǎo)率、pH、TOC、溫度、壓力等參數(shù)，故障自動(dòng)報(bào)警。

• 支持遠(yuǎn)程監(jiān)控與數(shù)據(jù)記錄，便于維護(hù)和合規(guī)管理。

4. 靈活配置

• 預(yù)處理步驟可根據(jù)原水水質(zhì)定制（如增加除硼過(guò)濾器、紫外線氧化等）。

• 可選配二級(jí)反滲透、拋光混床、氮封水箱等模塊，滿足不同行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。

三、技術(shù)參數(shù)示例

四、應(yīng)用場(chǎng)景

• 半導(dǎo)體/芯片制造：晶圓清洗、蝕刻工藝用水。

• 光伏/液晶顯示：硅片清洗、液晶灌注用水。

• 電子化學(xué)品生產(chǎn)：高純?cè)噭┡渲?、?shí)驗(yàn)室分析。

• 電鍍/表面處理：鍍液配制、產(chǎn)品清洗。

總結(jié)

湖北專業(yè)定制2噸工業(yè)超純水設(shè)備廠家通過(guò)“預(yù)處理+反滲透+EDI+拋光混床+滅菌”組合工藝，實(shí)現(xiàn)高效、穩(wěn)定的超純水制備，滿足工業(yè)領(lǐng)域?qū)λ|(zhì)的要求。實(shí)際設(shè)計(jì)需根據(jù)原水水質(zhì)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)及預(yù)算優(yōu)化配置。