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化工仪器网>产品展厅>实验室常用设备>其它实验室常用设备>镀膜机> 单靶直流磁控溅射镀膜仪

单靶直流磁控溅射镀膜仪

参考价 50000
订货量 ≥1
具体成交价以合同协议为准

联系方式:张经理查看联系方式

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


郑州成越科学仪器有限公司位于郑州市*开发区,是一家专业从事材料制备设备研发、生产和销售为一体的高科技公司。重点专注于CVD石墨烯制备设备、荧光粉烧结设备、氧化锆生物陶瓷烧结、纳米材料制备、电池材料制备、陶瓷材料的微波烧结、稀有金属的区域提纯等研究发展方向。

郑州成越科学仪器有限公司的研发团队凭借自身在热处理技术方面的专业知识和丰富的实践经验,先后研发出了多款*材料制备设备。主要产品有:微波烧结炉、真空管式炉、箱式电阻炉、高频感应炉、氧化锆烧结炉、荧光粉烧结炉、晶体退火炉、电池材料烧结炉、旋转管式炉、立式管式炉、CVD管式炉等;

其他的产品还有:等离子清洗机、真空手套箱、真空干燥箱、环境模拟测试柜、行星球磨机、高纯石英管、99刚玉管、真空法兰等。

近年来,在社会各界的关心支持下,公司不断发展壮大,与国内外多所高校和科研单位建立起了合作关系;公司还聘请了多位国内外重点高校的教授,博导为公司常年的技术顾问,他们时刻与国内外学术界保持交流,出国访问,并亲临一线指导产品的生产和研发,使我公司的产品不断完善,并紧跟世界研究热点,推出相关的新产品。产品远销欧美、日韩等国家,并在国内外市场获得业界*好评。

如果您正在被国货的产品质量所困扰,选择我们将改变您对国货的某些观念;如果您正在为自己的实验方案的实施而茫然,选择我们将有专业的技术团队为您量身定做!如果您正在为故障设备的售后无人理会而发愁,选择我们一切的问题将由我们负责到底。郑州成越科学仪器有限公司的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈。

 

管式炉,气氛炉,马弗炉,等离子磁控溅镀膜仪,等离子清洗机,切断机,抛光机

产地类别 国产 价格区间 1-5万
应用领域 地矿,能源,建材/家具,电子/电池,钢铁/金属

简单介绍:

该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

详情介绍:

单靶直流磁控溅射镀膜仪经过紧凑化设计,实现了体积与性能的平衡,造型美观功能齐全。整机均采用触控屏控制,内置一键式镀膜程序,操作简单易上手,是一款实验室制备薄膜的理想设备。

单靶为一支强磁靶,所配电源为 1台1500W 直流电源,直流电源可用于金属薄膜的制备。

镀膜仪配有一路高精度质量流量计,客户若另有需求可以定制至多四路质量流量计的气路,以满足复杂的气体环境构建需求;仪器标配涡轮分子泵组,极限真空可达 1.0E-5Pa,同时另有其他类型的分子泵可供选购。分子泵的气路由多个电磁阀控制,可以实现在不关泵的情况下打开腔体取出样品,大大提高了您的工作效率。本产品可以选配一体机工控电脑对系统进行控制,在电脑程序上可以实现真空泵组的控制、溅射电源的控制等绝大多数功能,可以进一步提高您的实验效率。

应用范围:

该设备可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

单靶直流磁控溅射镀膜仪

规格参数:


单靶直流磁控溅射镀膜仪

样品台

外形尺寸

Φ360mm

可调转速

1-20rpm可调

磁控靶枪

靶材平面

圆形平面靶

溅射真空

0.1Pa~3Pa

靶材直径

100~101.6mm

靶材厚度

3mm

绝缘电压

>2000V

电缆规格

SL-16

靶头温度

≦65℃

真空腔体

内壁处理

电解抛光

腔体尺寸

Φ500mm × 500mm

腔体材料

304不锈钢

观察窗口

石英窗口,直径φ100mm

开启方式

侧面开启

气体控制

流量控制

质量流量计,量程0~100SCCM

气体种类

可选氩气、氮气、氧气等多种气体

调节阀类型

电磁调节阀

调节阀静止状态

常闭

测量线性度

±1.5%F.S

测量重复精度

±0.2%F.S

测量响应时间

≤8秒(T95)

工作压差范围

0.3MPa

阀体耐压

3MPa

工作环境温度

(5~45)℃

阀体材料

不锈钢316L

阀体漏率

1×10-8Pa.m3/s

管道接头

1/4″卡套接头

输入输出信号

0~5V

供电电源

±15V(±5%)(+15V  50mA,  -15V  200mA)

外形尺寸mm

130(宽)×102(高)×28(厚)

通讯接口

RS485 MODBUS协议

直流电源

电源功率

1500W

膜厚测量

电源要求

DC:5V(±10%) *大电流 400mA

分辨率

±0.03Hz(5-6MHz),0.0136? /测量(铝)

测量精度

±0.5%厚度+1计数

测量周期

100mS~1S/次(可设置)

测量范围

500,000 ? (铝)

晶体频率

6MHz

通讯接口

 RS-232/485串行接口

显示位数

8位LED显示

分子泵

分子泵抽速

1200L/S

额定转速

24000rpm

振动值

≦0.1um

启动时间

5min

?;奔?/span>

7min

冷却方式

水冷+风冷

冷却水温度

≦37℃

冷却水流速

1L/min

安装方向

垂直±5°

抽气接口

150CF

排气接口

KF40

前级泵

抽气速率

VRD-16

极限真空

1Pa

供电电源

AC:220V/50Hz

电机功率

400W

噪音

≦56db

抽气接口

KF40

排气接口

KF25

阀门

闸板阀

真空腔体与分子泵间装有闸板阀

切断阀

分子泵与前级之间装有切断阀

旁抽阀

真空腔体与前级之间装有旁抽阀

放气阀

真空腔体上装有电磁放气阀

整机极限真空

≦5×10-4Pa

测试靶材

直径4英寸厚度3mm的镍靶材1块





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