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VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪

具体成交价以合同协议为准

联系我们时请说明是化工仪器网上看到的信息,谢谢!


北京鸿瑞正达科技有限公司—实验室整体建设解决方案集成者:
鸿瑞正达主要服务于高等院校、科研院所和研发企业,专注于科研领域,助力科研成果转化。公司提供材料研究成套设备及整套解决方案,包括:高压科学材料、金属材料、电池研发、地质地矿材料、脆性材料、薄膜材料等研究领域的科研成套设备。

我们的服务理念是:让科研更高效、便捷。

 

 

 

 

 

 

 

 

实验室设备,材料科学,质谱仪,电化学,电池,催化

 

 

 

 

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产品简介: VTC-16-D小型直流磁控等离子溅射仪靶头尺寸为2英寸, 样品台与溅射头之间的高度在 30-80mm 之间可以调节。安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射。溅射头对样品的溅射时间在1-120s 之间可调,若想获得薄的薄膜,溅射时间可以设置短一点img4若想获得厚的薄膜,溅射时间可以长一点。VTC-16-D 小型直流磁控等离子溅射仪设计主要是制作一些金属薄膜,制膜面积可达到4英寸。设备外 形小巧,性价比高,是制作各种金属薄膜理想的镀膜设备,可选配各种金属靶材和真空泵搭配设备使用。

 

产品名称

VTC-16-D 小型直流磁控等离子溅射仪

产品型号

VTC-16-D

 

 

主要特点

1 、特别为 SEM 样品镀导电性薄膜设计。

2、体积小巧,操作简单,容易上手。

3、拥有小型磁控靶头,可以镀金银铂等金属。

 

1、输入电源: 220V AC 50/60Hz

2、功率: 200W

3、输出电压: 500 VDC

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

技术参数

4、溅射电流: 0-50 mA 可调

5、溅射时间: 0-120S 可调

6、溅射腔体

1)采用石英腔体,尺寸: 166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

2)密封: 采用不锈钢平法兰的 O 形密封圈

7、溅射头&样品台

l)溅射头可安装靶材直径为 2 英寸, 厚度 0.1 - 2.5mm

2)溅射时间 1-120S 可调

3)仪器中安装有直径为 50mm 的不锈钢样品台, 其与溅射头之间距离 30-80mm 可调。

4)可选购加热型样品台,其加热温度可达 500℃

5)安装有一可手动操作的溅射挡板,可进行预溅射

6)制膜的直径可达:4 英寸(仅供参考,详情请点击)

 

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8、真空系统

l)安装有 KF25 真空接口 2)数字真空压力表(Pa 3)此系统可通入气体运行

4< 1.0E-2 Torr    (采用机械泵)

5< 1.0E-5 Torr  (采用涡旋分子泵)

9、进气

l)设备上配 1/4 英寸进气口,方便连接气瓶

2)设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

10、靶材

l)靶材尺寸要求: Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)

2)设备标配为铜靶

11、产品外型尺寸

L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

 

 

 



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