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Trion Orion III PECVD 薄膜沉積系統(tǒng)
- 公司名稱 德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
- 品牌
- 型號(hào) Trion Orion III PECVD
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/5/9 17:09:19
- 訪問(wèn)次數(shù) 1575
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 |
|---|
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)可以在緊湊的平臺(tái)上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺(tái)階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系統(tǒng)可以滿足實(shí)驗(yàn)室和中試生產(chǎn)環(huán)境中的所有安全，設(shè)施和工藝標(biāo)準(zhǔn)要求。
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)具有許多標(biāo)準(zhǔn)的需求功能，而且是這樣一個(gè)如此合理價(jià)格，這就是為什么許多世界各地的用戶已經(jīng)作出了Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)的選擇。
特征：
沉積薄膜：氧化物、氮化物、氧氮化物，非晶硅。
工藝氣體：＜20%硅烷、氨氣、正硅酸乙酯、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮
應(yīng)用：
MEMS, 固態(tài)照明，失效分析，研發(fā)，試驗(yàn)線.
客戶留言：
“相比較實(shí)驗(yàn)室的其他設(shè)備，我發(fā)現(xiàn)該設(shè)備（Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)和 Phantom RIE 刻蝕系統(tǒng)）是非常強(qiáng)大的。”–Lee M. Fischer，國(guó)家納米技術(shù)研究所，艾伯塔大學(xué)
“I’ve found both machines (Orion PECVD and Phantom RIE) to be quite robust, indestructible by comparison to some other lab equipment.” – Lee M. Fischer, National Institute for Nanotechnology, University of Alberta
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