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04-18不同胶液特性下的适配方案:台式匀胶机在光刻胶、聚合物中的应用技巧
1.胶液特性对匀胶工艺的影响1.1光刻胶的特性与挑战高粘度与快速固化:光刻胶(如SU-8)需高转速(3000-6000rpm)配合短加速时间,避免胶液未铺展即固化。表面张力敏感性:低表面张力胶液易产生边缘厚积,需结合预润湿工艺(如旋涂前喷涂抗排斥剂)。1.2聚合物的特性与挑战粘度范围广:从低粘度聚乙二醇(PEG)到高粘度聚酰亚胺(PI),需动态调节转速曲线(如阶梯式加速)。溶剂挥发性差异:挥发性溶剂(如丙酮)需快速旋涂(4000rpm)减少针孔,而非挥发性溶剂(如NMP)需延长低速阶段(500-2025
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