除硼树脂的核心特性与除硼机理介绍

高选择性吸附

   官能团设计：基于 胺聚羟基（Poly hydroxy amine） 官能团，通过多羟基与硼酸根离子形成稳定的五元/六元环状络合物，实现硼的特异性吸附，不受常见离子（如Na?、Ca2?、SO?2?等）干扰。

PH依赖性：较佳吸附pH为 碱性环境（pH>9），此时硼以B(OH)??形式存在，络合效率高；酸性条件（pH<7）则利于再生时解吸。

性能参数

二、应用场景与典型案例

半导体超纯水制备

必要性：硼会改变硅晶体的电学性质，干扰芯片掺杂工艺，导致阈值电压漂移和良率下降4。

案例：某芯片厂采用 "RO→除硼树脂柱→EDI→抛光混床" 工艺，将原水硼浓度从440 ppt降至5 ppt。

核电站冷却水处理

用于维持硼浓度低于0.1 ppm，防止硼酸沉积影响反应堆安全运行。

其他领域

海水淡化：深度脱硼保障饮用水合规（欧盟标准≤1 mg/L）。

盐湖提锂：去除卤水中硼杂质，提升锂盐纯度。

三、关键操作注意事项

系统设计与运行控制

位置安排：建议置于RO系统后、EDI或混床前，以便调节pH至碱性（通常加NaOH至pH 9.5–10.5）。

流速控制：较佳空床接触时间（EBCT）对应流速≤20 BV/h，避免穿透。

再生与维护

再生剂：4% HCl或H?SO?溶液，酸性条件破坏硼络合物。

再生步骤：酸洗→慢冲洗→碱转型（恢复OH?型）→终冲洗，需清除残留再生剂。

寿命管理：定期监测出水硼泄漏，典型使用寿命2–3年，受进水有机物/悬浮物影响。

四、对比优势总结