在能源與環(huán)境問題日益突出的背景下,光催化技術(shù)作為一種具潛力的綠色技術(shù),受到了廣泛關(guān)注。準確評估光催化劑的活性是推動該技術(shù)發(fā)展與應用的關(guān)鍵。本文聚焦于原位表征技術(shù)集成下的光催化活性動態(tài)評價系統(tǒng),詳細闡述了該系統(tǒng)的原理、組成部分,以及原位表征技術(shù)在此系統(tǒng)中的關(guān)鍵作用。通過對相關(guān)研究案例的分析,展示了該系統(tǒng)在光催化研究中的應用成果,為深入理解光催化反應機理、開發(fā)高效光催化劑提供了有力支持,同時也對未來該領(lǐng)域的研究方向進行了展望。
一、引言
光催化技術(shù)利用太陽能驅(qū)動化學反應,在能源轉(zhuǎn)化(如光解水制氫、太陽能燃料合成)和環(huán)境凈化(如有機污染物降解、殺菌消毒)等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的應用潛力。光催化劑的活性是決定光催化反應效率的核心因素,因此,開發(fā)準確、有效的光催化活性評價方法至關(guān)重要。傳統(tǒng)的光催化活性評價方法多為非原位檢測,無法實時獲取反應過程中的關(guān)鍵信息,難以深入理解光催化反應機理。原位表征技術(shù)能夠在光催化反應進行的同時,對催化劑的結(jié)構(gòu)、表面性質(zhì)以及反應中間物種等進行實時監(jiān)測,為光催化活性的動態(tài)評價提供了新的途徑。將原位表征技術(shù)集成到光催化活性評價系統(tǒng)中,有助于揭示光催化反應過程中的動態(tài)變化,為優(yōu)化光催化劑性能、設(shè)計新型光催化劑提供科學依據(jù)。
二、光催化活性評價基礎(chǔ)
(1)光催化反應原理
光催化反應基于半導體材料的光電特性。當能量大于半導體禁帶寬度的光子照射到光催化劑表面時,光子被吸收,激發(fā)產(chǎn)生電子 - 空穴對。光生電子具有還原性,空穴具有氧化性,它們遷移到催化劑表面,與吸附在表面的反應物分子發(fā)生氧化還原反應。以光解水制氫為例,光生空穴氧化水生成氧氣,光生電子還原質(zhì)子生成氫氣;在光催化降解有機污染物過程中,光生空穴將有機污染物逐步氧化為二氧化碳和水等小分子無機物。
(2)光催化活性評價指標
1.光催化活性
這是評價系統(tǒng)最核心的指標,通常以單位時間內(nèi)單位質(zhì)量(或單位面積)催化劑上目標產(chǎn)物的生成量來衡量。在光解水制氫反應中,常用每小時每克催化劑產(chǎn)生氫氣的摩爾數(shù)(mol?h?1?g?1)表示;對于光催化降解有機污染物,常以單位時間內(nèi)污染物的降解率來表征。例如,某光催化劑在一定條件下,1 小時內(nèi)將初始濃度為 100 ppm 的有機污染物降解至 10 ppm,則其降解率為 90%。
2.穩(wěn)定性
光催化劑在長時間運行過程中保持活性的能力至關(guān)重要。評價系統(tǒng)需監(jiān)測催化劑在多個反應循環(huán)或長時間連續(xù)反應后的活性變化。穩(wěn)定的光催化劑在長時間反應后,其活性下降幅度應在可接受范圍內(nèi)。如經(jīng)過 100 小時連續(xù)光催化反應后,某催化劑的活性仍能保持初始活性的 80% 以上,則可認為該催化劑穩(wěn)定性較好。
3.選擇性
在一些復雜的光催化反應體系中,可能產(chǎn)生多種產(chǎn)物,光催化劑對目標產(chǎn)物的選擇性成為重要指標。選擇性指目標產(chǎn)物在所有產(chǎn)物中所占的比例。例如,在光催化 CO?還原反應中,可能生成 CO、CH?、CH?OH 等多種產(chǎn)物,若某催化劑對生成 CH?OH 的選擇性達到 80%,則表明該催化劑在將 CO?轉(zhuǎn)化為 CH?OH 方面具有較高選擇性。
三、原位表征技術(shù)及其在光催化中的應用
(1)原位拉曼光譜技術(shù)
原位拉曼光譜能夠?qū)崟r監(jiān)測光催化反應過程中催化劑的晶格結(jié)構(gòu)、應力變化以及分子振動信息。例如,在研究 CdS 光催化劑的光腐蝕問題時,通過原位拉曼光譜發(fā)現(xiàn),在光催化產(chǎn)氫反應過程中,不同氣氛下 CdS 的晶格應力和電子 - 聲子相互作用會發(fā)生變化,且光腐蝕早期雖無明顯 S 元素價態(tài)變化,但晶格應力增加可被精確檢測到,這為光腐蝕的早期發(fā)現(xiàn)與抑制提供了依據(jù)。在 TiO?光催化劑的研究中,利用原位升溫拉曼光譜技術(shù),可獲得 TiO?從無定形態(tài)向銳鈦礦轉(zhuǎn)變以及銳鈦礦相向金紅石相轉(zhuǎn)變的溫度趨勢和過程信息,揭示原料、產(chǎn)物結(jié)構(gòu)及時間與晶體晶相轉(zhuǎn)變之間的關(guān)系。
(2)原位 X 射線光電子能譜技術(shù)
原位 X 射線光電子能譜(XPS)可用于分析光催化劑表面元素的化學狀態(tài)、電子結(jié)合能等信息,實時監(jiān)測反應過程中催化劑表面元素的價態(tài)變化、吸附物種的變化等。例如,在研究光催化 CO?還原反應時,通過原位 XPS 可以觀察到催化劑表面活性位點上 CO?吸附和轉(zhuǎn)化過程中相關(guān)元素的化學狀態(tài)變化,有助于理解反應機理和確定活性中心。
(3)原位紫外光電子能譜技術(shù)
原位紫外光電子能譜(UPS)能夠提供光催化劑表面電子結(jié)構(gòu)、功函數(shù)等信息。在光催化反應中,通過監(jiān)測 UPS 信號的變化,可以了解光生載流子的產(chǎn)生、遷移和復合過程,以及反應物分子與催化劑表面的相互作用情況,為研究光催化反應動力學提供重要依據(jù)。
(4)原位質(zhì)譜技術(shù)
原位質(zhì)譜可實時檢測光催化反應過程中產(chǎn)生的氣態(tài)產(chǎn)物和中間物種,確定其種類和濃度隨時間的變化。例如,在光解水制氫和光催化 CO?還原反應中,利用原位質(zhì)譜能夠快速、準確地檢測到氫氣、一氧化碳、甲烷等產(chǎn)物的生成,以及反應過程中可能產(chǎn)生的自由基等中間物種,為深入研究反應路徑提供直接證據(jù)。
(5)原位紅外光譜技術(shù)
原位紅外光譜可用于監(jiān)測光催化反應過程中反應物、產(chǎn)物以及吸附在催化劑表面的中間物種的紅外吸收特征,從而推斷反應機理。例如,在光催化 CO?還原反應中,通過原位紅外光譜可以檢測到 CO?還原過程中的關(guān)鍵中間體 COOH * 的特征吸收峰,證實其在反應中的存在和作用。在研究光催化劑表面與反應物分子的相互作用時,原位紅外光譜也能提供豐富的信息。
四、原位表征技術(shù)集成下的光催化活性動態(tài)評價系統(tǒng)構(gòu)建
(1)系統(tǒng)組成
1.光源模塊
光源是光催化反應的能量輸入源。常見的光源有氙燈和 LED 燈。氙燈能模擬太陽光的連續(xù)光譜,覆蓋紫外到可見甚至近紅外波段,適用于研究光催化劑在全光譜下的活性;LED 燈能耗低、壽命長且波長可精確選擇,可根據(jù)光催化劑的吸收特性選用,聚焦特定波段的光催化反應研究。例如,研究 TiO?光催化劑時,因其對紫外光響應強,常搭配特定紫外波長的 LED 燈。光源的材質(zhì)多采用石英玻璃等透光性好且化學性質(zhì)穩(wěn)定的材料,確保光線高效穿透進入反應體系,且不與反應物或催化劑發(fā)生化學反應。
2.反應腔室模塊
反應腔室是光催化反應發(fā)生的場所,需具備良好的密封性和光學性能。其材質(zhì)通常選用耐腐蝕、透光性好的材料,如石英玻璃。反應腔室應能精確控制反應條件,如溫度、壓力、反應物濃度等。在涉及氣體參與的光催化反應中,如光解水制氫、光催化 CO?還原,反應腔室需具備良好的真空密封性能,排除外界氣體干擾,保證反應體系純凈,同時能精確控制反應氣體的流量、壓力和組成。例如,通過質(zhì)量流量控制器可將反應氣體流量精度控制在 ±1% 以內(nèi)。反應腔室還應配備高精度溫度控制系統(tǒng),常見控溫方式有電加熱、水冷等,能將溫度控制在設(shè)定值的 ±1℃范圍內(nèi)。
3.原位表征模塊
該模塊集成了多種原位表征技術(shù)。如原位拉曼光譜儀、原位 X 射線光電子能譜儀、原位紫外光電子能譜儀、原位質(zhì)譜儀和原位紅外光譜儀等。這些儀器可在光催化反應進行時,實時對催化劑的結(jié)構(gòu)、表面性質(zhì)、反應中間物種等進行監(jiān)測。為實現(xiàn)各原位表征儀器與反應腔室的有效連接和協(xié)同工作,需設(shè)計專門的接口和樣品傳輸裝置,確保在不破壞反應體系的前提下,獲取準確的原位表征數(shù)據(jù)。
4.檢測與分析模塊
檢測與分析模塊用于檢測反應產(chǎn)物的種類與濃度。對于氣體產(chǎn)物,常用氣相色譜(GC)進行分析,可精確測定氫氣、氧氣、一氧化碳、二氧化碳等氣體的含量。質(zhì)譜(MS)可用于對復雜產(chǎn)物的結(jié)構(gòu)鑒定,核磁共振(NMR)也可在某些情況下用于產(chǎn)物分析,為深入理解光催化反應機理提供依據(jù)。該模塊還配備數(shù)據(jù)采集與處理系統(tǒng),能實時采集各檢測儀器的數(shù)據(jù),并進行分析、存儲和可視化展示,便于研究人員直觀了解光催化反應過程中的動態(tài)變化。
(2)系統(tǒng)工作流程
首先,將光催化劑樣品放置于反應腔室中,通過氣路控制系統(tǒng)向反應腔室中通入適量的反應物氣體,并調(diào)節(jié)反應腔室的溫度、壓力等條件至設(shè)定值。開啟光源模塊,光子照射到光催化劑表面,引發(fā)光催化反應。在反應過程中,原位表征模塊中的各儀器同步工作,實時監(jiān)測催化劑的結(jié)構(gòu)變化、表面物種吸附與反應情況以及反應中間物種的生成與轉(zhuǎn)化。例如,原位拉曼光譜儀監(jiān)測催化劑晶格結(jié)構(gòu)變化,原位 X 射線光電子能譜儀分析催化劑表面元素化學狀態(tài)變化,原位質(zhì)譜儀檢測反應產(chǎn)生的氣態(tài)產(chǎn)物和中間物種。檢測與分析模塊對反應產(chǎn)物進行實時檢測和分析,數(shù)據(jù)采集與處理系統(tǒng)收集并處理來自原位表征模塊和檢測與分析模塊的數(shù)據(jù),生成光催化活性隨時間變化的曲線,以及催化劑結(jié)構(gòu)和表面性質(zhì)等參數(shù)的動態(tài)變化信息,從而實現(xiàn)對光催化活性的動態(tài)評價。
五、原位表征技術(shù)集成下光催化活性動態(tài)評價系統(tǒng)的應用案例
(1)光解水制氫研究
科研人員利用該系統(tǒng)篩選和優(yōu)化高效光催化劑,以提高太陽能到氫能的轉(zhuǎn)化效率。通過對一系列基于 TiO?的復合光催化劑進行活性評價,發(fā)現(xiàn)摻雜一定量過渡金屬(如 Fe、Co 等)能顯著提高 TiO?的光催化產(chǎn)氫活性。在某光催化活性評價系統(tǒng)中,優(yōu)化后的 TiO? - Fe 復合催化劑在模擬太陽光照射下,產(chǎn)氫速率達到 5 mmol?h?1?g?1,相比純 TiO?催化劑提高了近 3 倍。原位表征技術(shù)揭示了摻雜過渡金屬后,催化劑的電子結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,促進了光生載流子的分離與傳輸,從而提高了光催化產(chǎn)氫活性。
(2)太陽能燃料合成研究
在太陽能驅(qū)動的 CO?還原合成燃料研究中,該系統(tǒng)用于評價不同催化劑對 CO?還原產(chǎn)物的選擇性和活性。某研究團隊利用光催化活性評價系統(tǒng)篩選出一種基于 Cu?O 的催化劑,在特定反應條件下,對 CO?還原生成 CH?的選擇性高達 60%。通過原位表征技術(shù)發(fā)現(xiàn),該催化劑表面存在特定的活性位點,能夠優(yōu)先吸附和活化 CO?分子,并促進其向 CH?的轉(zhuǎn)化,為緩解溫室效應和實現(xiàn)碳循環(huán)利用提供了新途徑。
(3)有機污染物降解研究
在光催化降解水中和空氣中有機污染物的研究中,該系統(tǒng)廣泛應用。例如,在對某新型光催化劑降解羅丹明 B 染料廢水的研究中,利用光催化活性評價系統(tǒng)監(jiān)測發(fā)現(xiàn),在可見光照射下,該催化劑在 2 小時內(nèi)可將羅丹明 B 的降解率提高至 95% 以上。原位表征技術(shù)顯示,光催化反應過程中,催化劑表面產(chǎn)生的光生空穴和活性氧物種能夠有效攻擊羅丹明 B 分子,使其逐步降解為小分子無機物。在大氣污染治理方面,該系統(tǒng)用于評價光催化劑對揮發(fā)性有機化合物(VOCs)、氮氧化物(NOx)等污染物的去除效果。某負載型 TiO?光催化劑在光催化活性評價系統(tǒng)中對甲苯的降解實驗表明,在模擬太陽光照射下,該催化劑能有效將甲苯降解為 CO?和 H?O,降低空氣中甲苯濃度。
(4)殺菌消毒研究
光催化技術(shù)在殺菌消毒領(lǐng)域具有潛在應用價值,光催化活性評價系統(tǒng)可評估光催化劑對細菌、病毒等微生物的滅活效果。實驗發(fā)現(xiàn),某些具有特定結(jié)構(gòu)的光催化劑在光照條件下能產(chǎn)生強氧化性的活性氧物種,破壞細菌的細胞壁和細胞膜,實現(xiàn)對大腸桿菌、金黃色葡萄球菌等常見細菌的高效滅活。在光催化活性評價系統(tǒng)中,經(jīng)過一定時間光照處理后,細菌存活率可降低至 1% 以下。原位表征技術(shù)有助于揭示光催化劑與微生物相互作用的機制,為開發(fā)高效殺菌消毒光催化劑提供理論支持。
六、結(jié)論與展望
(1)研究結(jié)論
本文詳細闡述了原位表征技術(shù)集成下的光催化活性動態(tài)評價系統(tǒng),該系統(tǒng)結(jié)合了多種原位表征技術(shù),能夠在光催化反應過程中實時監(jiān)測催化劑的結(jié)構(gòu)、表面性質(zhì)以及反應中間物種等信息,實現(xiàn)對光催化活性的動態(tài)、全面評價。通過對系統(tǒng)組成、工作流程以及應用案例的分析,展示了該系統(tǒng)在光催化研究中的重要作用。在光解水制氫、太陽能燃料合成、有機污染物降解和殺菌消毒等領(lǐng)域的應用中,該系統(tǒng)為深入理解光催化反應機理、開發(fā)高效光催化劑提供了有力工具,推動了光催化技術(shù)的發(fā)展與應用。
(2)研究展望
未來,隨著科學技術(shù)的不斷進步,原位表征技術(shù)集成下的光催化活性動態(tài)評價系統(tǒng)有望在以下幾個方面取得進一步發(fā)展:一是提高原位表征技術(shù)的分辨率和靈敏度,實現(xiàn)對光催化反應過程中更細微變化的監(jiān)測,深入探究光催化反應的微觀機理;二是進一步優(yōu)化系統(tǒng)的集成度和自動化程度,提高實驗效率和數(shù)據(jù)準確性,降低實驗成本;三是拓展該系統(tǒng)在更多復雜光催化反應體系中的應用,如多相光催化、光催化電化學反應等,為解決實際能源和環(huán)境問題提供更有效的技術(shù)支撐;四是結(jié)合人工智能、大數(shù)據(jù)等新興技術(shù),對大量的原位表征數(shù)據(jù)進行深度挖掘和分析,加速新型光催化劑的設(shè)計與開發(fā)。總之,原位表征技術(shù)集成下的光催化活性動態(tài)評價系統(tǒng)具有廣闊的發(fā)展前景,將在光催化領(lǐng)域發(fā)揮越來越重要的作用。
產(chǎn)品展示
近年來半導體行業(yè)的快速發(fā)展,超高純316L不銹鋼,符合SEMI F20標準,通過真空感應熔煉+真空自耗重熔(VIM+VAR),并使用特殊的工藝處理,對材料進行提純,進一步減少了材料中的的非金屬夾雜物和氣體成分。EP管(316L,VIM+VAR)是表面經(jīng)過電解拋光處理,以提高產(chǎn)品內(nèi)部的平滑性,并在金屬表面形成富鉻層以提高耐腐蝕性,電解拋光后的產(chǎn)品做鈍化處理以去除游離鐵離子。EP拋光產(chǎn)品經(jīng) SEM、 ESCA/XPS、AES分析,產(chǎn)品質(zhì)量滿足半導體協(xié)會 SEMI F20 標準。
基于EP拋光(316L,VIM+VAR)技術(shù)的發(fā)展,鑫視科shinsco采用國內(nèi)優(yōu)秀企業(yè)生產(chǎn)的EP管(316L,VIM+VAR)和EP自動閥門,替換了光催化活性評價系統(tǒng)的原有玻璃管路和閥門,并實現(xiàn)了PLC全面控制整套系統(tǒng),實現(xiàn)了SSC-PCAE光催化活性評價系統(tǒng)的全自動化運行。
SSC-PCAE光催化活性評價系統(tǒng)(Photocatalytic activity evaluation system)沿用半導體行業(yè)的真空技術(shù),將玻璃管路和閥門替換為EP管和EP自動閥,實現(xiàn)了整個系統(tǒng)的全自動控制實驗過程,全自動在線采樣分析,實現(xiàn)了實驗中真正的全自動運行。SSC-PCAE光催化活性評價系統(tǒng)主要應用于光解水、全解水、電催化、光催化CO2還原、光催化固氮、光電催化氣體產(chǎn)物分析、耐壓釜式反應、催化反應的微量氣體收集等。
產(chǎn)品優(yōu)勢:
1)封閉反應的產(chǎn)物氣體收集、采樣、在線分析的一體化系統(tǒng);
2)內(nèi)置氣體磁力增壓泵,形成高強壓差,實現(xiàn)氣體快速混勻;
3)全系統(tǒng)耐壓-14.6psi ~150psi,實現(xiàn)了從真空到10atm的壓力覆蓋;
4)應用半導體材料(TiO2、InO、C3N4、CdS等)催化劑的活性評價;
5)催化劑產(chǎn)氫、產(chǎn)氧、光解水的性能分析;
6)催化劑二氧化碳還原的性能分析;
7)系統(tǒng)可配和玻璃、石英、不銹鋼、PEEK、PTFE等材料制備的反應器使用
8)可滿足光電反應、氣固反應、膜催化、多相反應等特殊實驗要求;
9)系統(tǒng)管閥件全部采用EP(316L,VIM+VAR)管和EP閥,對氣體無吸附;
10)系統(tǒng)即裝即用,可兼容任意廠家氣相色譜儀,無需額外增加進樣閥門;
11) GC測試范圍廣,氫、氧、CO2、甲烷、CO、甲醛、C1-C5等微量氣體;
相關(guān)產(chǎn)品
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