瞬間高效率流體加熱技術產品HX系列。

小型氣體加熱器的用途

• 可加熱各種流體

• 瞬間且穩(wěn)定的流體加熱

• 質量流量控制器(MFC)輸出端的氣體加熱

各種流體加熱

該系列加熱器搭載SUS316L不銹鋼材質的加熱模塊，加熱部分與流體不直接接觸，可以瞬間加熱沒有腐蝕性的流體。

瞬間且穩(wěn)定的流體加熱

在配管中流動的氣體具有很難被加熱和冷卻的特點。

通常，配管中的流體通過配管外部的帶狀加熱器加熱。但這種方式存在缺點，即難以使熱量傳遞到中心部位。HX系列熱交換器可以將熱量瞬間傳遞到流體中心，從而達到穩(wěn)定加熱的目的。

質量流量控制器(MFC)輸出端的氣體加熱

在半導體制造工藝中，不僅需要對氣體進行加熱處理，氣體還需要在加熱前接受流量控制。為了在加熱器的輸入端設置質量流量控制器以控制流量，加熱器(輸出端)則需采用低壓降結構。LINTEC自主研發(fā)的HX系列加熱器具備低壓降結構，適合與質量流量控制器輸出端連接使用。

最高加熱溫度200℃的小型氣體加熱器。

特點

• 面間距160㎜×長度55㎜的緊湊型設計

• 可將10SLM的N2加熱至200℃

• 接觸氣體部分接采用SUS316L不銹鋼材質，可加熱對其無腐蝕性的氣體

• 真空、加壓條件下也可使用

HX-0020

使用范例

ALD、CVD設備的熱吹掃

液化氣體通常用于ALD(原子層沉積)和CVD(化學氣相沉積)等真空沉積工藝，但用室溫氣體吹掃會發(fā)生冷卻、冷凝的現象，從而使吹掃效果大打折扣。熱吹掃則有效解決了這一問題。小型氣體加熱器HX-0020系列的的空間面積與MFC所差無幾，且最高加熱溫度為200℃，可對使用端(POU)附近的氣體進行加熱，因此成為了ALD和CVD等真空沉積設備熱吹掃工藝的理想選擇。

規(guī)格表

※小型氣體加熱器、小型熱交換器的產品詳情請直接致電或郵件咨詢LINTEC。