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Baikowski CR-4N 高純氧化鋁研磨粉末:特性、應用與選型指南

來源:秋山科技(東莞)有限公司   2025年04月30日 10:24  

1. 產(chǎn)品概述

Baikowski CR-4N 系列是一組高純度(99.99% Al?O?)氧化鋁(Al?O?)研磨粉末,采用先進的噴射磨解聚工藝(jet-mill deagglomerated powders)制備,確保顆粒高度分散,減少團聚現(xiàn)象。該系列產(chǎn)品憑借優(yōu)異的物理化學性能,廣泛應用于高精度拋光、陶瓷涂層、制表業(yè)及特種陶瓷制造等領域。

2. 核心特性

2.1 高純度與晶體結構

所有CR-4N系列產(chǎn)品均達到4N級(99.99%)純度,確保材料在高溫、腐蝕或精密加工環(huán)境下的穩(wěn)定性。根據(jù)結晶相的不同,可分為:

  • α相氧化鋁(CR1、CR6、CRA6、CR30F部分):具有高硬度(莫氏硬度9)、優(yōu)異的熱穩(wěn)定性和化學惰性,適用于耐磨拋光、高溫陶瓷及精密機械加工。

  • γ相氧化鋁(CR125):比表面積大(105 m2/g),化學活性高,適用于催化、吸附或多孔功能材料,但機械強度較低,不適合高負荷應用。

  • 混合相(CR30F,80%α相+20%其他相):兼具一定硬度和高比表面積,適用于超細拋光或特殊功能性涂層。

2.2 粒徑與比表面積
  • 粗顆粒(CR1,D50=1.0 μm):適用于粗磨或高密度陶瓷成型,如照明陶瓷部件。

  • 中細顆粒(CR6/CRA6,D50=0.4-0.5 μm):平衡拋光效率與表面光潔度,是藍寶石、硅片及手表拋光的理想選擇。

  • 超細顆粒(CR30F,D50=0.2 μm):適用于超高精度拋光,但需優(yōu)化分散工藝以避免漿料黏度過高。

  • 超高比表面(CR125,105 m2/g):專為催化、吸附涂層設計,適用于化工或環(huán)保領域。

2.3 密度與工藝適配性
  • 高密度(CR1/CR6/CRA6,松裝密度0.6 g/cm3):適合高固含量漿料,涂層更致密,機械強度更高。

  • 低密度(CR125,松裝密度0.1 g/cm3):需調整噴涂或成型工藝,適用于輕質多孔結構。

3. 典型應用領域

3.1 精密拋光
  • 藍寶石/硅片拋光:推薦CR6或CRA6(0.4-0.5 μm,100%α相),兼顧效率與表面質量;超精拋光可選用CR30F(0.2 μm)。

  • 制表業(yè)(表殼、表帶):CR6/CRA6用于鏡面拋光,CR1(1.0 μm)用于粗磨去痕。

3.2 陶瓷涂層與燒結
  • 耐磨/耐高溫涂層:CR1或CR6(高α相含量)適用于機械部件防護。

  • 功能性涂層(催化、吸附):CR125(γ相)適合化工反應器或環(huán)保過濾材料。

  • 傳統(tǒng)照明陶瓷:CR1(1.0 μm)優(yōu)化燒結密度,提高部件機械強度。

3.3 其他應用
  • 電子陶瓷:超細粉末(CR30F)可用于MLCC(多層陶瓷電容器)介質材料。

  • 生物陶瓷:高純度α相(CR6)適用于牙科或骨科植入體表面處理。

4. 選型與使用建議

  • 優(yōu)先考慮結晶相:高硬度需求選擇α相(CR1/CR6),高化學活性需求選擇γ相(CR125)。

  • 粒徑匹配工藝:粗加工選CR1,精密拋光選CR6/CRA6,超精加工選CR30F。

  • 注意分散性:超細粉末(如CR30F)需添加分散劑以防止團聚。

  • 避免γ相高溫應用:CR125在>1000℃時會轉變?yōu)棣料?,導致比表面積下降。

5. 結論

Baikowski CR-4N系列通過精準調控結晶相、粒徑和密度,為不同工業(yè)場景提供定制化解決方案。無論是高精度拋光、耐磨涂層,還是催化功能材料,用戶均可根據(jù)具體需求選擇優(yōu)型號,并結合工藝優(yōu)化實現(xiàn)最佳性能。該系列產(chǎn)品代表了高純氧化鋁材料的技術,在制造領域具有不可替代的價值。


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