随着半导体器件特征尺寸的不断缩小，等离子体工艺中的电弧放电问题日益突出。微小的电弧不仅可能损坏设备，还会导致产品缺陷，甚至造成生产中断。如何实时监测等离子体状态和晶圆蚀刻程度，快速检测电弧并优化工艺，成为半导体制造中的一大挑战。

英?？瞪淦荡屑际跆峁┝饲看蟮慕饩龇桨?/strong>：Sion™射频探测器，提供连续反馈，确保精确的端点检测，避免过度蚀刻和材料浪费；ADC100电弧检测器，拥有超卓的电弧检测技

术，在维护生产效率的同时?；ど璞?；协力帮助客户提升生产效率、减少?；奔?，并确保产品质量。

Sion™：等离子体工艺的“实时卫士”

Sion™是一款非侵入式射频探测器，专为高速电弧检测和工艺终点控制设计。它适用于多种等离子体辅助工艺，如电离物理气相沉积 (iPVD)、等离子增强化学气相沉积 (PECVD) 和

蚀刻工艺，能够实时检测电弧工艺，确保工艺稳定性和产品良率。

Sion™的核心优势在于：

实时电弧检测：以高达250 kHz的数据采集频率，快速捕捉微电弧事件，防止对靶材、腔室和基材造成损害。

非侵入式安装：采用卡箍式设计，可轻松集成到现有工具箱中。

智能数据分析：与FabGuard数据管理系统无缝集成，提供全面的数据管理和分析功能，帮助优化工艺参数。

ADC100：直流电弧的“高速捕手”

ADC100同样是一款非侵入式的高速直流电弧检测设备，通过连接DC供电系统，可实时监测等离子体中的电弧事件，并在出现问题时迅速中断晶圆生产过程，防止硬件或产品损坏。

ADC100的亮点功能包括：

高速响应：每个通道的数据采集频率高达250 kHz，确保对电弧事件的快速检测和响应；其内配置的预定义分析工具也能确保检测效率。

终点检测功能：不仅能够检测电弧，还能优化工艺终点控制，减少过度蚀刻和材料浪费。

全球技术支持：英?？堤峁┤蚍段У募际踔С郑繁DC100在不同地区的应用中都能发挥最佳性能。

智能数据分析：与FabGuard数据管理系统无缝集成，提供全面的数据管理和分析功能，帮助优化工艺参数。 如果您正在寻找一种能够提升生产效率、减少?；奔洳⑷繁２分柿康陌氲继宓壤胱犹骞ひ占嗖饨饩龇桨?，英?？档纳淦荡屑际踅悄睦硐胙≡?。