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窄带滤光片和截止滤光片的制作工艺有哪些不同?瑞研光学

来源:长春瑞研光电科技有限公司   2024年12月20日 09:34  
窄带滤光片和截止滤光片的制作工艺存在多方面不同,以下是详细介绍:

镀膜材料选择


  • 窄带滤光片:通常需寻找高折射率且低消光系数的镀膜材料,如二氧化钛、五氧化三钛等具有高折射率的材料,以实现对特定窄波段光的精确控制134.

  • 截止滤光片:材料选择较为多样,根据截止波长范围和具体应用有所不同。如红外截止滤光片常使用稀土金属化合物,像铒、镱等,可有效阻挡红外光;对于可见光截止滤光片,也会用到一些金属氧化物和有机染料等材料578.

膜系设计


  • 窄带滤光片:膜系结构相对复杂,一般由数十层甚至上百层不同折射率和厚度的薄膜组成,通过精确控制各膜层的厚度和折射率,利用光的干涉原理实现窄带透过特性 。例如,采用法布里 - 帕罗腔堆叠的方式进行设计,使中心波长处的光干涉相长,而其他波长的光干涉相消346.

  • 截止滤光片:设计重点在于实现特定波长范围的截止,膜系结构相对简单。比如长波截止滤光片,通过设计多层膜,使短波长的光透过,长波长的光在膜层间反射和吸收而截止。对于吸收型截止滤光片,主要依靠材料本身对特定波长光的吸收特性来实现截止,膜系设计相对更侧重于材料的选择和吸收层的优化257.

镀膜技术


  • 窄带滤光片:常用的镀膜技术有离子束溅射和电子束蒸发等。这些方法能够在高真空环境下精确控制每层薄膜的厚度和折射率,保证膜层的均匀性和一致性,从而实现窄带滤光片的高精度光谱特性,但设备成本较高、镀膜速率相对较慢46.

  • 截止滤光片:可采用真空蒸发、磁控溅射、化学气相沉积等多种镀膜技术。真空蒸发适用于金属氧化物和稀土金属化合物等材料的沉积;磁控溅射则适用于涂覆均匀性要求较高的光学薄膜;化学气相沉积常用于复杂结构的薄膜沉积57.

制作流程及监控


  • 窄带滤光片:制作流程包括基底清洗、镀膜材料准备、膜系设计与优化、高精度镀膜以及严格的质量检测等环节。在镀膜过程中,需要精确控制膜层厚度和折射率,常采用光控监控和石英晶体监控等方法实时监测膜层生长情况,确保膜层厚度和性能符合设计要求146.

  • 截止滤光片:首先要进行基材的准备,如切割、抛光等处理,以确保表面光滑平整,便于后续的镀膜。然后进行涂层沉积,根据不同的镀膜技术和材料选择合适的工艺参数。在薄膜设计阶段,使用光学设计软件进行模拟和优化。制作过程中对膜层厚度和均匀性的监控要求相对较低,主要通过光谱测试等手段对成品进行质量检测,验证其在截止波长范围内的性能57.


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