Holmarc 的紫外激光刻写系统是一种直接刻写光刻系统，用于在涂有光刻胶层的基片上刻写微几何特征。这套无掩膜系统配备了强度可调的光纤耦合 405nm 激光器和伺服电机驱动的高精度 XY 平台，并配有数控软件，可书写复杂的图案。四倍电动转塔配有不同的物镜，可在聚焦点形成不同的光斑尺寸。配备了一个带黄色 LED 照明的 300 万像素摄像头，用于聚焦样品，以获得最佳特征尺寸。用户友好型软件用于样品基底的初始设置，数控软件用于根据 dxf 绘图文件绘制图案。

                                                                                                    规格

  激光器：405 纳米光纤耦合激光器

    聚焦模式 ：    基于显微镜物镜

    光斑直径：<10 微米（取决于物镜放大倍率）

    强度：样品位置处为 3mW

    聚焦：电动，软件控制

    电动 XY-Theta 样品平台

    XY 行程：100 毫米 x 100 毫米

    XY 分辨率：1 微米

    单向重复性：3 微米

    定位精度：5 微米

    Theta 平台分辨率：0.1 度

    重复性：0.1 度

    定位精度：0.1 度

    真空样品夹头

    鼻模 ：    四轴，电动，软件控制

    软件 ：    Mach3 CNC 软件

    显微镜目标

    1. Infinity Plan 消色差 60X 物镜

    N A : 0.75

    工作距离： 1.22 毫米

    2. Infinity Plan 100 倍消色差物镜

    N A : 0.85

    工作距离：0.4 毫米