近正常光谱反射仪是用于工业和研究领域薄膜厚度分析的基本仪器。Holmarc 的 NNSR（型号：HO-NNSR-02）能够高速、高重复性地分析薄膜

厚度、复折射率和表面粗糙度。NNSR 理论采用菲涅尔方程的复杂矩阵形式。绝对反射光谱是反射仪的原理，即反射光束（通常为多色）的强度与

入射光束强度的比值。通常入射到样品表面的光束会从薄膜的顶部和底部反射出来，这些光束会受到干扰，并通过光纤（双纤光纤）经计算机传导

到连接光谱仪的 CCD 上。在监视器上，我们可以看到与薄膜厚度成正比的干涉振荡光谱图。

                                                                                           规格

薄膜厚度范围：25 纳米 - 3.5 微米

    FFT 厚度范围：3500 纳米 - 35 微米

    光谱仪波长范围：340 纳米 - 940 纳米

    反射波长范围：390 纳米 - 940 纳米

    光源：卤钨灯石英灯，20 和 50 瓦（定制）

    探测器：CCD 线性阵列，3648 像素

    传输方式：双纤（玻璃芯和 PMMA 包层］

    薄膜叠层精度：± < 1 nm

    同一叠层的精度：± < 2 nm（无粗糙度）（与 SEM 比较）

    样品上的光斑尺寸：120 微米（使用 5 倍 SLWPA 物镜

    工作距离：3 毫米

    光纤：带 SMA 的多模双芯光纤

    扫描：手动（千分尺控制 15 毫米扫描）

    参考样品：裸 NSF66 / 裸铝（定制） / 普通玻片

    深色样品：N-Bk7 黑色涂层/保持 45° 的铝镜（定制）

    标准样品：NSF-66 基底上的 SiO2 薄膜 / Bk7 基底

    测量模式 ：    曲线拟合/回归算法、FFT、FFT + 曲线拟合

    分散公式：Cauchy、Sellmeier 和经验模型

    EMA 模型：线性 EMA、Bruggemann、Maxwell Garnett 模型

    PC 接口：USB

特点

    分析单层和多层薄膜（间接法）

    光纤探头用于测量正常入射角的反射率。

    CCD 线性阵列探测器，用于绝对反射率测量。

    采用 Levenberg - Marquardt 曲线拟合算法进行厚度测量。

    基于 FFT 的厚层厚度测量，PET 薄膜标准化。

    用于粗糙度测量的线性、布鲁格曼和麦克斯韦石榴石近似模型。

    吸收和透射研究。

    针对 n 和 k 值的参数化分散模型，如 Cauchy、sellimier、组合和 drude。

    用户可扩展材料库

    数据可保存为 Excel 文件，用于提取光学特性