光谱椭偏仪广泛用于薄膜分析和测量。Holmarc 的光谱椭偏仪采用旋转分析仪椭偏技术来表征薄膜样品。它使用高速 CCD 阵列检测来收集整个光谱。它可以测量从纳米厚度到几十微米

的薄膜，以及从透明材料到吸收材料的光学特性。它能精确测量折射率、薄膜厚度和消光系数等光学常数。

                                                                                              规格

    光谱范围：450 - 800 纳米

    椭偏仪配置 ：  RAE

    探测器：3648 像素 CCD 线性传感器

    光谱分辨率：1 纳米

    入射角：50 - 75 度（分辨率 0.1 度，自动操作）

    样品聚焦：自动

    样品厚度：0.3 毫米 - 8 毫米

    厚度测量范围：20 纳米 - 10 微米

    薄膜厚度分辨率：0.01 纳米

    测量 R.I 的分辨率：0.001

    样品校准 ：  手动倾斜

    样品测量  自动

    厚度分析：先进的数学拟合算法

    软件功能

    自动操作

    自动样品聚焦

    用户可扩展材料库

    数据可保存为 Excel 格式

    数学拟合算法

    多层厚度测量

    推导厚度和光学常数

椭偏原理

椭偏仪是一种高灵敏度的薄膜分析技术。其原理依赖于光从表面反射时偏振态的变化。

为了描述与电磁波电场方向相对应的偏振态，选择了两个方向作为参考，即 p 方向（平行）和 s 方向（垂直）。反射光在 p 方向和 s 方向的相位变化不同。椭偏仪可以测量这种偏振状态；

p = rp / rs = tan Ψe iΔ

其中，Ψ 和 Δ 分别是 p 和 s 分量的振幅比和相移。由于椭偏仪测量的是两个值的比值，因此非常精确且可重复。

特点

    非破坏性和非接触式技术

    分析单层和多层样品

    精确测量超薄薄膜

    用于测量、建模和自动操作的软件

    统一的 (Ψ, Δ) 测量灵敏度