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在SEM扫描电子显微镜中，电子束从电子枪中发出，通过轨道电磁透镜设备进行聚焦和信号放大，最终与样品相互作用，产生二次电子和散射电子等各种信号，通过成像设备转化成可观察的图像。
在SEM成像中，常用的成像模式有以下几种：
1.次外壳成像模式（SEI）：这种模式下，SEM通过探测下方产生的二次电子和表面的次电子，即形成所谓的次表面成像。SEI模式可用于研究样品表面形貌特征，例如表面粗糙度、形态等。
2.高角度底层成像模式（BSE）：在样品表面装上低原子数的薄膜，使用BSE模式，可以观察到带有原子序数反比于信号强度的图像。这种模式下，BSE信号主要来源于高能电子与样品中的原子作用，尤其是高原子序数物质更散射的电子以及穿透的电子多，因而成像亮度相对较高，用于研究材料表面显微组织结构的表征。
3.散射电子成像模式（SED）：散射电子成像可能是从样品中发出的慢电子（低能散射）或快电子（高能散射），这些电子的强度反比于原子序数，因此可以显示材料组织结构、缺陷、晶界面等信息。
4.反射电子成像模式（RSE）：在正常操作模式下，电子束顶部的接近水平方向。而反射电子成像是改变电子束的入射角度，使其倾斜到样品垂直方向，使得电子束的高能电子被反射回来，从而得到自然的反相成像，用于材料表面缺陷的直接观测。
SEM成像模式的不同可以提供关于材料表面形貌、化学成分和物理性质的不同信息，能够广泛应用于各种不同的领域和应用中，包括材料科学、纳米科技、生物科学、环境科学等。随着SEM技术的不断发展，使得SEM成像能力不断提高和完善，为各个领域的科学研究和实践应用提供了更加丰富和有效的手段。
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